ECMのチャンバー炉

温度: 1,200 °C
幅: 1,220 mm
高さ: 915 mm

... ECO炉は炉と一体化したオイルクエンチセルを含む真空ダブルチャンバーシステムです。このコンパクトなシステムは、焼入れまたは浸炭作業のための密閉式焼入れ炉またはIQ炉の置き換えを目的としています。 真空を利用するECOシステムは非常に効率的です。プロセスは従来のソリューションと比較して高温で行われます。これにより生産性が向上し、処理量が増加します。また、環境への影響も最適化されます。実際、電気加熱と真空の組み合わせにより、エンドガスジェネレーターが不要になります。炉は部品を炭素で濃縮するために必要 ...

... ソリューションを採用しています。大口の熱処理委託加工業者による熱処理と同じ品質が、小規模の作業場でも得られるようになりました。 ICBP®モノは、特許インフラカーブプロセスInfracarb®を利用して真空浸炭・浸炭窒化を行う加熱チャンバー1基からなります。 冷却は、加熱チャンバー内に中性ガスを対流させて行います。 処理の均一性に優れ、生産・保全とも低コストに抑えつつ、大型設備と同様の品質が得られます。 アプリケーション 真空浸炭 真空浸炭窒化 焼入れ 金属組織硬化 真空焼鈍 ...

ICBP®デュオは、特許インフラカーブプロセスInfracarb®を利用して真空浸炭・浸炭窒化を行う加熱チャンバー1基と焼入れセルからなります。 焼入れセルは、油焼入れ（ホットまたはコールド）またはガス焼入れ（最大圧力20 バール）が選択できます。 2つのチャンバーは独立しており、タイトドアで仕切られています。 ...

幅: 8,000 mm

... れました。 プラス＆メリット この設備は、低歪変形を達成しつつ、チャージ間の優れた均一性、再現性を保証します。各加熱セルは個別制御で、温度、ガス注入、熱処理条件をセルごとに変えて処理できます。フレキシブルかつコンパクトな設備で、生産性改善と熱処理の質向上を保証します。 アプリケーション 真空浸炭 真空浸炭窒化 ガス焼入れ ヘリウム (He) または窒素 (N2) 最大圧力10バール（オプションで20バール） 高温焼戻し 真空焼鈍 ろう付け 焼結

... フレックスのコンパクトなモジュール設計は、製品品質と生産性向上のニーズに応えるため開発されました。 ICBP®フレックスには、油焼入れ（ホットまたはコールド）、シングルフローまたはダブルリバースフローのガス焼入れ（20バールまで）と、必要な生産量に合わせた数の加熱セルを組み込むことができます。対流型高温焼き戻しセルも追加可能です。 軽量で断熱タイプの搬送ロボットがチャージをセルからセルへと搬送します。 ...

温度: 1,050 °C
幅: 1,000, 1,200 mm
高さ: 700, 750 mm

マルチチャンバー炉ICBP®ジャンボが、ECMテクノロジーのご提案する真空浸炭ソリューションに加わりました。大きな生産能力と、システム各装置へのアクセス性が最適化されているのが特徴です。ICBP®ジャンボは、フレックスの利点であるコンパクトなモジュール設計を生かしつつ、真空浸炭設備で処理できるワークの容量・数量をさらにアップしています。 マルチチャンバー炉ICBP®ジャンボの主な特徴： 航空宇宙材料規格AMS2750Eの各バージョンに完全適合 ...

温度: 0 °C - 1,350 °C
高さ: 1,800, 1,500 mm
奥行き: 900, 1,500 mm

... しています。その他にも、大重量のチャージや、サイズの大きな部品を処理する必要のある事業にご利用いただけます。 設備は全自動化され、処理結果の再現性、生産性改善に重点を置くお客様に特にお勧めします。 真空浸炭用縦型熱処理炉PFTHの4つの主な特徴 1.　ECMテクノロジー開発の真空浸炭ソリューションを用いた高温炉（最高温度1350℃）。 2.　二重隔壁コールドウォール使用、アジテーター内蔵の、効率の良い油焼入れ。 3.　油槽を床面に組み込んだ、コンパクトな設備。 4.　機械式乗降 ...

温度: 1,600 °C
幅: 250 mm
高さ: 250 mm

... 適しています。 ニッケル、チタン、クロム、コバルト、モリブデン、タングステンなどは、特に中真空、高真空での処理が必要です。 ターコイズシリーズは、設備外でチャージが積載できるように設計されており、炉のドアに取り付けられた台にチャージを直接積載します。 この積載方法は、クリーンな環境への組み込みに適しています。 コンパクト設計の設備ながら、処理温度は1600℃までと、中真空または高真空にて幅広い温度での処理ができます。 プラス＆メリット ターコイズシリーズは、医療、航空機産業 ...

温度: 1,600, 2,350 °C
容量: 75 l

... アプリケーションをコンパクトに行うことができます。そのため、特に実験室、大学、研究所などでの使用に適しています。 プラス＆メリット 炉床が昇降する仕組みなので、炉床上の台に直接チャージを配置し、計器を取り付けられるというメリットがあります。さらにフレキシブル性を高めるため、使用条件、性能、処理金属材料に合わせてヒーターエレメントの素材を選択できます。 リリプットシリーズの標準仕様は中真空ですが、高真空での処理ができるように簡単に仕様変更できます。 炉にはタッチパネル（スーパービジョンソフト ...

... します。ランプアレイ、上部フランジ、クォーツウインドウは回転式トップリッドに取り付けられており、チャンバーへのフルアクセスが可能なため、ウェハーの出し入れが容易です。 炭化ケイ素でコーティングされたグラファイトサセプターは、様々な小サンプルや化合物半導体の処理に利用できます。複数のプロセスを同じリアクターで行う必要がある場合、クロスコンタミネーションを避けるために、ご要望に応じて予備のプロセスチャンバーを提供することができます。ジェットファーストの高い信頼性と高性能特性は、小規模生産を可能にします ...