Steinmeyerの電動式ポジショニングステージ

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リニアポジショニングステージ
リニアポジショニングステージ
LA92

ストローク: 1 mm - 40 mm
速度: 1 mm/s - 200 mm/s
繰返し精度: 0.3 µm - 5 µm

... 可能。 - チャンバー内の設置状況に個別に対応 - モーションコントローラー FMC400/450 オプション 技術データ - トラベル: 40 mm - 繰り返し精度 ± 0.3 µm(一方向) ± 0.4 µm(双方向 - 荷重: → 19 N / ↑ 9 N - 最大速度: 200 mm/s - モーターナノモーション - ...

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リニアポジショニングステージ
リニアポジショニングステージ
LA170

ストローク: 1 mm - 130 mm
速度: 1 mm/s - 10 mm/s
繰返し精度: 0.4 µm - 5 µm

... ISO 14644-1用バージョン(ご要望によりクラス1まで対応可能) - コントローラー FMC400/450 オプション 技術データ - トラベル: 60 mm - 130 mm - 繰り返し精度 ± 2.8μm、±0.4μm(一方向) ± 4 µm、± 0.5 µm(双方向) - 荷重: → 196 N / ↑ 196 N - ...

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リニアポジショニングステージ
リニアポジショニングステージ
LT300

ストローク: 1 mm - 100 mm
速度: 1 mm/s - 10 mm/s
繰返し精度: 0.4 µm - 5 µm

... LT300 高精度高負荷リニアステージ 用途搬送ステージ、高荷重用スキャニングステージ 利点:ドライ潤滑にもかかわらず高寿命 特徴:ドライ潤滑油付きリードスクリューまたは液体ピエゾブレーキ付きボールスクリューによるnm安定性 - ...

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リニアポジショニングステージ
リニアポジショニングステージ
LA97

ストローク: 1 mm - 300 mm
速度: 1 mm/s - 10 mm/s
繰返し精度: 0.015 µm - 5 µm

... 14644-1用バージョン(ご要望に応じてクラス1まで対応可能) - コントローラー FMC400/450 オプション 技術データ - トラベル: 100 mm - 300 mm - 繰り返し精度 ± 0.015 µm (一方向) ± 0.02 µm (双方向) - 荷重: → 98 N / ↑ 58 N - 最大速度: 10 ...

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リニアポジショニングステージ
リニアポジショニングステージ
LA95

ストローク: 1 mm - 185 mm
速度: 1 mm/s - 8.4 mm/s
繰返し精度: 0.4 µm - 5 µm

... LA95 - 用途:搬送ステージ、スキャニングステージ - 利点:ドライ潤滑にもかかわらず高寿命 - 特徴: ドライ潤滑油付きリードスクリューまたは ボールスクリュー - 真空: 10E-9 mbarまでのHV/UHVの全圧力範囲 - 磁性: 磁気 - 潤滑: ...

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リニアポジショニングステージ
リニアポジショニングステージ
MT53

ストローク: 1 mm - 10 mm
速度: 0.2 mm/s - 10 mm/s
繰返し精度: 0.2 µm - 5 µm

... MT53 高分解能マイクロステージ 用途:多目的マイクロステージ 利点:高分解能スキャン用 特徴:非常に高い分解能での位置決め - 真空:HV/UHVの全圧力範囲、10E-11mbarまで - 潤滑:液体潤滑(10E-8mbarまで)/ドライ潤滑(10E-11mbarまで - 磁気: 磁気 - 最高ベークアウト温度120°C ...

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リニアポジショニングステージ
リニアポジショニングステージ
KT105

ストローク: 1 mm - 50 mm
速度: 1 mm/s - 50 mm/s
繰返し精度: 0.3 µm - 5 µm

... XYZ位置決めシステム(MT105など)と組み合わせ可能 - 回転アプリケーション用の回転ステージ(DT105など)と組み合わせ可能 - コントローラ FMC400/450 をオプションで提供 技術データ - トラベル:50 mm - 繰り返し精度 ± 0.3μm、±0.5μm(一方向) ...

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リニアポジショニングステージ
リニアポジショニングステージ
KDT300

ストローク: 1 mm - 100 mm
速度: 1 mm/s - 10 mm/s
繰返し精度: 0.4 µm - 5 µm

... KDT300 安定した高負荷xyステージ 用途:搬送ステージ、高荷重用スキャニングステージ 利点: - 潤滑油の乾燥にもかかわらず高寿命 特徴: 潤滑油の乾燥にもかかわらず長寿命 - 真空度:HV / UHV / EUVの全範囲、10E-11まで - ...

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リニアポジショニングステージ
リニアポジショニングステージ
HT160

ストローク: 1 mm - 16 mm
速度: 1 mm/s - 2.2 mm/s
繰返し精度: 1 µm - 5 µm

... 精密高荷重垂直リフティングステージ 用途:真空リフティングステージ 利点:高剛性・高荷重 特徴:ボールねじスピンドル付きウェッジ - 真空度:全レンジ HV / UHV / EUV 最大10E-11 mbar - 最大10E-8 / 最大10E-11 mbarのドライ潤滑液 - ...

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リニアポジショニングステージ
リニアポジショニングステージ
HDT255

ストローク: 1 mm - 16 mm
速度: 1 mm/s - 16.6 mm/s
繰返し精度: 0.7 µm - 5 µm

... HDT255 高荷重開口リフティングテーブル 用途:真空リフティングステージ 利点:-高剛性、高荷重、開口部 特徴:開口部付きウェッジステージ - 真空度:全レンジ HV / UHV / EUV 最大10E-11 mbar - ...

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