Steinmeyerの光応用配置システム

繰返し精度: 1 µm
積載量: 15 kg
ストローク: 200 mm - 1,000 mm

... 高度にダイナミックなアプリケーションに対応するXYZガントリー カスタマイズ可能 - 高精度かつダイナミックなアプリケーションに最適 - 1300 x 800 mmの非常に広い移動範囲 - 高加速度・高速度と高精度の両立 このガントリーは、1300 x 800 mmの領域で、非常にダイナミックな動きを可能にします。カスタマイズされた加工ヘッドやZ軸のセンサーは、グラナイト上のキャリア上を素早く、スムーズに移動します。プロファイルされたレールガイドは、花崗岩に直接取り付けられており、サブミクロンの再現性の高い結果を得るために最適な走行特性を提供します。 仕様 - ...

繰返し精度: 0.3 µm - 2.5 µm
積載量: 5 kg - 20 kg
ストローク: 100 mm - 720 mm

... カスタマイズ可能 - ウェハー/半導体の自動検査に最適 - 各2 x 720 x 720 x 100 mmの非常に大きな移動範囲 - 2つのプロセスを同時に統合することが可能 クリーンルーム用4軸で構成され、複数の対象物を同時に自動計測できる検査システムです。高いダイナミクスと最高の再現性を実現しています。片側1台の高解像度カメラまたはセンサーをサンプルに対して相対的に移動させ、形状の検査、測定、特別な品質特性の記録を行います。 仕様 - ...

繰返し精度: 0.3 µm - 0.5 µm
ストローク: 50 mm - 200 mm
速度: 30 mm/s

... 高精度自動光学検査用XYZ位置決めシステム カスタマイズ可能： - 高精度自動検査プロセスに最適 - 0.3 µmまでの高い繰り返し精度 - 測定誤差を3μm以下に低減 この3軸位置決めシステムは、XYステージがZ軸上のセンサーやカメラに対して極めて低いピッチ誤差とヨー誤差で測定対象物を移動させるような高精度測定アプリケーション向けに開発されました。例えば、高さのある部品の測定や3Dプロファイルの記録などがこれにあたります。 仕様 - ...

繰返し精度: 0.3 µm - 0.4 µm
ストローク: 100 mm - 200 mm
速度: 15 mm/s - 25 mm/s

... コントローラー付きXYZシステム カスタマイズ可能： - アプリケーションのセットアップと拡張に最適 - 0.3μmまでの高精度繰り返し精度 - 30mm/sの比較的高速な位置決め速度で、最小のステップと最高の信頼性 - 150Nまでの中荷重を位置決めする±1の完璧な平面度 PMT160 の高精度で耐久性の高い標準直動軸に、独立した Z 軸ユニットを搭載した ...

繰返し精度: 0.8 µm - 4 µm
積載量: 1 kg
ストローク: 25 mm - 25 mm

... MP63-3 小型XYZ位置決めシステム、デカルト カスタマイズ可能 - 高分解能 - 限られた建設スペースに最適 - 最大10 Nの負荷容量 - 細径スピンドルによるアプリケーションの微調整 - プロファイルレールベアリングによる長寿命と高精度な動作 この小型X-Y-Zシステムは、スペースが限られた位置決めアプリケーションに最適です。細径スピンドルとの組み合わせにより、XYZステージは非常に高い分解能を実現します。同時に、この高精度位置決めシステムは、非常に優れた価格性能比を提供します。 ...

繰返し精度: 0.001 µm - 3.5 µm
積載量: 6.5 kg
ストローク: 4 mm - 20 mm

... XYZ-θ-Phi-δ位置決めシステム（クリーンルームISO 5） カスタマイズ可能 - 最大300 mm / 12 "までのウェハーおよび光学部品の自動検査に最適 - 2.5μmまたは±0.005°の高い繰り返し精度 - 520 x 600 x 155 mmの卓越した精度、剛性、コンパクト性 - クリーンルームクラスISO 5までの3シフト運転に対応した設計 6軸マニピュレーターは、水平軸にXYステージ、垂直軸に三脚と2つのチルトを備え、直交運動と平行運動の長所を1つのシステムで実現しています。 仕様 ...