Steinmeyerの圧電ポジショニングステージ

ストローク: 1 mm - 300 mm
速度: 1 mm/s - 10 mm/s
繰返し精度: 0.015 µm - 5 µm

... 14644-1用バージョン（ご要望に応じてクラス1まで対応可能） - コントローラー FMC400/450 オプション 技術データ - トラベル: 100 mm - 300 mm - 繰り返し精度 ± 0.015 µm (一方向) ± 0.02 µm (双方向) - 荷重： → 98 N / ↑ 58 N - 最大速度: 10 ...

ストローク: 1 mm - 10 mm
速度: 0.2 mm/s - 10 mm/s
繰返し精度: 0.2 µm - 5 µm

... MT53 高分解能マイクロステージ 用途：多目的マイクロステージ 利点：高分解能スキャン用 特徴：非常に高い分解能での位置決め - 真空：HV/UHVの全圧力範囲、10E-11mbarまで - 潤滑：液体潤滑（10E-8mbarまで）/ドライ潤滑（10E-11mbarまで - 磁気: 磁気 - 最高ベークアウト温度120°C ...

ストローク: 1 mm - 50 mm
速度: 1 mm/s - 50 mm/s
繰返し精度: 0.3 µm - 5 µm

... XYZ位置決めシステム（MT105など）と組み合わせ可能 - 回転アプリケーション用の回転ステージ（DT105など）と組み合わせ可能 - コントローラ FMC400/450 をオプションで提供 技術データ - トラベル：50 mm - 繰り返し精度 ± 0.3μm、±0.5μm（一方向） ...

速度: 180 mm/s - 270 mm/s
繰返し精度: 0.001 µm - 1 µm
積載量: 3 kg

... き高分解能回転ステージ HV/UHV、DUV、クリーンルームISO 6、n x 360°、rep 0.0005°、荷重3 kg、速度270°/秒 - クリーンルーム： ISO 6クラスまでのバリエーション（ご要望によりそれ以上のクラスにも対応可能） - 真空：HV/UHVの全レンジ、最大10～11 mbar - 潤滑液：最大10-8 mbar / 特殊構成ドライ：最大10-11 ...

ストローク: 360 mm - 360 mm
速度: 200 mm/s - 300 mm/s

... 大口径高分解能ロータリーステージ UHV、DUV / EUV、クリーンルーム ISO 6、n x 360°、rep 0.0003°、速度 300°/秒、荷重 5 kg - クリーンルーム： ISO 6クラスまでのバリエーション（ご要望に応じてそれ以上のクラスにも対応可能） - 真空：HV/UHVの全レンジ、最大10～11 mbar - 潤滑：液体10-8 mbarまで/ドライ10-11 ...

ストローク: 10 mm
速度: 5 m/s
繰返し精度: 0.2 µm - 0.3 µm

... 返し精度を実現する高分解能測定システムをオプションで装備可能 - 回転アプリケーション用回転テーブルとの組み合わせが可能 - チャンバー内の設置状況に個別に対応 - クリーンルーム ISO 14644-1 用バージョン（ご要望によりクラス 1 まで対応可能） - オプションでコントローラ ...

ストローク: 20 mm - 200 mm
速度: 5 mm/s - 10 mm/s
繰返し精度: 0.02 µm - 30 µm

... °C オプション - 用途に合わせた材料選択と真空潤滑 - チャンバー内の設置状況に個別に対応 - オプションでFMC400/450コントロールユニットを装着可能 - 技術データ - 移動範囲: 20 mm - 200 mm - 繰り返し精度 ± 0.02 µm（一方向） ± 0.03 µm（双方向） - 荷重： → 200 N ...

ストローク: 25 mm - 50 mm
速度: 2.5 mm/s - 5 mm/s
繰返し精度: 0.2 µm - 0.3 µm

... MDT85-PM 真空/クリーンルーム用リニアステージと軸 - クリーンルーム：クラス ISO 6 までのバリエーション（ご要望によりそれ以上のクラスも可能） - 真空：すべてのHV / UHVレンジ - ビーム: UV / DUV / EUV - 潤滑：液体 10-8 / 乾燥 10-11 mbar まで - ベークアウト温度ベークアウト温度140°C オプション - ...

ストローク: 1 mm - 10 mm
速度: 2.5 mm/s - 5 mm/s
繰返し精度: 0.2 µm - 0.3 µm

... MDT85-PM 真空/クリーンルーム用リニアステージと軸 - クリーンルーム：クラス ISO 6 までのバリエーション（ご要望によりそれ以上のクラスも可能） - 真空：すべてのHV / UHVレンジ - ビーム: UV / DUV / EUV - 潤滑：液体 10-8 / 乾燥 10-11 mbar まで - ベークアウト温度ベークアウト温度140°C オプション - ...

ストローク: 1 mm - 100 mm
速度: 1 mm/s - 100 mm/s
繰返し精度: 0.2 µm - 5 µm

... 位置決めシステムとの組み合わせが可能 - クリーンルーム ISO 14644-1 用バージョン（ご要望に応じてクラス 1 まで対応可能） - FMC400/450 コントローラー付きオプション 技術データ - 移動量： 100 mm - 繰返し精度： - ± 0.4 µm (一方向) ± 0.5 ...