VACUUBRANDの回転翼真空ポンプ
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到達真空度 : 0.01 mbar
流量: 6.9, 5.9 m³/h
出力: 0.4 kW
... RC 6ケミストリー-HYBRIDポンプは、2段式ロータリーベーンポンプと2段式ケミストリー・ダイアフラムポンプを組み合わせ、耐腐食性を最適化したポンプです。ダイアフラムポンプは、溶剤蒸気の分圧を凝縮点以下のレベルに保ち、酸素と腐食性ガスの濃度を大きく下げるため、オイルタンクを真空状態に維持します。そのため、RC ...
VACUUBRAND
流量: 2.3, 2.8 m³/h
出力: 0.18 kW
使用温度: -10 °C - 60 °C
... 2.5と2段式RZ 2.5は高性能ロータリーベーンポンプで、非常にコンパクトな設計で軽量です。中程度のガス流量で低い極限真空を必要とする幅広い実験室やプロセス用途に理想的なソリューションです。RZ 2.5はオイルミストフィルター(FO)、VS 16バルブと組み合わせたパッケージもご用意しています。代表的なアプリケーションは、凍結乾燥、精密真空蒸留、少量の排気(例えば、μ焦点X線管の利用や純ガスの充填など)です。 性能の特徴 極限真空に近い真空レベルでも高い流量 効率的なガスバラストによる高い水蒸気耐性 ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 0 mbar
流量: 2.8, 2.3 m³/h
出力: 0.2 kW
... ロータリーベーンポンプで、非常にコンパクトな設計で軽量です。中程度のガス流量で低い極限真空を必要とする幅広い実験室やプロセス用途に理想的なソリューションです。RZ 2.5はオイルミストフィルター(FO)、VS 16バルブと組み合わせたパッケージもご用意しています。代表的なアプリケーションは、凍結乾燥、精密真空蒸留、少量の排気(例えば、μ焦点X線管の利用や純ガスの充填など)です。 性能の特徴 極限真空に近い真空レベルでも高流量 ガスバラスト使用時でも非常に優れた極限真空 スイッチオフ時の真空密閉性:外付 ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 0.1 mbar
流量: 5.7, 6.8 m³/h
出力: 0.3 kW
... この強力なロータリーベーンポンプは、この容量のポンプとしては異例のコンパクト設計と軽量化を実現しています。ロータリーベーンポンプは、数mbarから10-3mbarまでの極限真空を達成する必要がある場合に使用され、中~高ガス流量で低い極限真空を必要とするラボやプロセスの幅広いアプリケーションに理想的なソリューションです。典型的な用途は、脱気、凍結乾燥、微量真空蒸留、乾燥室などです。 性能の特徴 極真空に近い真空度でも高い流速が得られる。 効率的なガスバラストによる高い水蒸気耐性;ガスバラストを使用 ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 0.01 mbar
流量: 6.8, 5.7 m³/h
出力: 0.3 kW
... この強力なロータリーベーンポンプは、この容量のポンプとしては特にコンパクトな設計と低重量を特徴としています。中~大流量のガスで低極限真空を必要とする実験室やプロセス用途に最適です。ロータリーベーンポンプは、数mbarから10-3mbarまでの極限真空を達成する必要がある場合に使用されるポンプで、ポンプ、オイルミストフィルターなどを含む様々なパッケージがあります。典型的な用途は、脱気、凍結乾燥、精密真空蒸留、乾燥室などです。ポンプユニットPC3は、ポンプと環境の特別な保護が必要なアプリケーションに最適 ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 0, 0.01 mbar
流量: 5.7, 6.8 m³/h
出力: 0.3 kW
... ロータリーベーンポンプは、この容量のポンプとしては特にコンパクトな設計と低重量を特徴としています。中・高流量ガスで低極限真空を必要とするラボやプロセス用途に最適なソリューションです。2段式ロータリーベーンポンプRZ 6は、ポンプ、オイルミストフィルターFO、バルブVS 16、真空計VACUU-VIEW拡張を含むパッケージとしても提供されています。ロータリーベーンポンプは、数mbarから10-3mbarまでの究極の真空を達成する必要がある場合に使用されます。典型的な用途は、脱気、凍結乾燥、精密真空蒸留、乾燥室 ...
VACUUBRAND
到達真空度 : 0, 0.1 mbar
流量: 10.2, 8.9 m³/h
使用温度: -10 °C - 60 °C
... るための1段式強力ロータリーベーンポンプです。代表的な用途は、凍結乾燥、精密真空蒸留、乾燥オーブンです。単段ロータリーベーンポンプRE 9は、排気フィルターFOやバルブVS 25などの付属品と組み合わせた様々なパッケージもご用意しています。ロータリーベーンポンプは数mbarのプロセス真空に使用されます。 性能の特徴 極限真空に近い真空レベルでも非常に高い流量 効率的なガスバラストによる高い水蒸気耐性;ガスバラストを使用しても非常に優れた極限真空度 スイッチオフ時の真空密閉性:外部サックバック防止バルブ ...
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