WEISS TECHNIKのチャンバー炉

温度: 220 °C - 400 °C
容量: 0.2 m³ - 8 m³
幅: 60, 150, 125, 100, 75 cm

HeatEvent- 加熱・乾燥機 再現可能な結果と製品品質、最小の必要空間、短いプロセス時間、高水準の生産性、これらはすべての産業生産分野で求められるものです。vötschtechnik®の加熱・乾燥機HeatEventはコンポーネントや材料を最高400°Cで確実、迅速、かつエネルギー効率良く熱処理します。これにより素晴らしい製品を週7日/24時間体制で生産することができます。 HeatEventは最小の設置面積で最大の内部容量を提供します。iE3モーターと断熱性の向上、信頼性の高いドア封止コンセプトにより、このオーブンは最大のエネルギー効率で動作します。HeatEventシリーズはデジタル式SiMPAC®計測・制御システムをと革新的WEBSeason®ユーザーインターフェースを標準装備。これらの機能がシンプルなオペレーションと加熱・乾燥オーブンの監視、複雑な温度プログラムの製作とAMS ...

温度: 350 °C
幅: 2,000 mm
高さ: 1,100 mm

... 鋳造、樹脂製チューブのエージング、またCFRPやGFRPなどで作られたフィラメントワインディング部品の硬化に適用可能です。重量のあるパーツをクレーン使用で上から簡単にロードできるシステム構造となっています。密閉蓋の取り扱いには、ガススプリングや空気圧シリンダ、油圧シリンダなど複数の標準化されたソリューションが利用可能です。密閉蓋オープン時の熱ロスを防止するため、封止カバーで区画ごとにオープンすることができます。熱源としてIR技術を利用することも可能です。 おもな特長 公称温度350°C ...

温度: 300 °C - 3,000 °C

VIR - 赤外線技術 赤外線技術では直接接触することなく、また空気や水などの転移媒体も使うことなくエネルギーを光速で電磁放射に転移することが可能です。そのため、赤外線加熱は真空状態やクリーンルーム環境など特に困難な使用領域にも適しています。紙や印刷、テキスタイルなどの産業、またガラスやセラミック、プラスティックなどの技術、複合材料や塗装剤などにも使用されます。 IR放射器の放射性能は取り扱い対象の製品の吸収性に合わせて最適に調整されます。赤外線システムを設計するためには取り扱い対象の製品の物理的パラメータをいくつか事前に知っておかなければなりません。当社施設ではこれらパラメータを判定するための赤外線試験を実施することができます。 おもな特長 ...

温度: 350 °C

クリーンルーム用加熱・乾燥オーブン Type VTF クリーンルーム用VTF加熱・乾燥オーブンは、最適で反復可能な生産結果に求められる、特に均一な温度分配を備えた低擾乱フローという特徴を持っています。新鮮循環空気チャネル内の高効率微粒子エアフィルター（HEPA）が、DIN EN ISO 14644-1に従うISO 5のクリーンルームクラス要件に適合する処理スペースを実現しています。 • プログラムサイクル全般を通して、高純度のDIN ...

温度: 650 °C

焼戻し熱オーブン Type VAW VAWシリーズの焼戻しオーブンは10年以上にわたって実証され常にさらなる開発が進められてきたオーブンの建設コンセプトを示しています。金属の熱処理やテフロンベース樹脂（PTFE）の焼結、乾燥後の特殊コーティング剤の焼き付けなど、さまざまな材料の熱処理プロセスに数多く利用されています。 VAWシリーズは気密モデルとして保護ガス雰囲気にも使用されます。最高650°Cの作業温度であらゆる場面に使用可能です。 空気スループットにより材料が希望温度に迅速に到達 ...

温度: 200 °C

工業オーブン/加熱・乾燥オーブン Type VTU 製造で使用されるコーティング材料用の標準加熱・乾燥オーブン VTUシリーズの加熱・乾燥オーブンはオールラウンドな製品で、自動車エンジニアリングや航空宇宙分野、エレクトロニクス製品など、またガラスやセラミック、プラスティック、金属、繊維、合成物などの幅広い材料の処理に適しています。可燃物が放出されない用途に幅広く利用していただけます。VTUシリーズは再現可能な生産結果を確保するための処理スペースに空気ダクトを方向付けて施工することにより、非常に均一な温度分配を達成しています。 高い加熱率により、プロセス時間とリカバリ時間が短縮されます。最適な断熱と内部ハウジングの分離によって、コスト効率と環境持続可能性の両方を同程度に確保しています。 排気ファン、積み込み台車、さまざまな制御システムなどの幅広いオプションと付属品があり、個々のアプリケーション要件に従った装置の最適な拡張が可能になっています。 VTUシリーズには不活性ガス接続の気密モデルもあり、不活性ガス待機でのプロセスのパフォーマンスを可能にしています。 最適化プロセスを実現する条件 ...