円筒形マグネトロン

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ロータリーマグネトロン
ロータリーマグネトロン

... ドロップインとサイドマウントの完全なアセンブリは、3″(75mm)または5″(125mm)のバッキングチューブ直径を使用し、最大4メートルの長さで利用可能であり、最小のソース間間隔を持つ複数のインラインアレイは、コンパクトな高スループット生産システムで利用可能である。 ONYX-Revolution™は、どのようなターゲットタイプにも適合するようにカスタマイズされたターンアラウンドで、ユニバーサルでコスト効率の良いマグネットデザインを採用しています。また、低コストで長期的な投資と信頼性を実現するために、既製のコンポーネントで設計されています。 オングストローム・サイエンスの特許取得済みプロファイル・マグネット技術は、ソースと基板間の蒸着プロファイルをより正常なものにします。改善された蒸着プロファイルは、チャンバー壁へのデブリ蓄積を低減します。 さらに、アングストローム・サイエンシズのマグネットアレイは、より高い磁場強度を提供するため、ユーザーはスパッタリングプロセスを低電力で実行し、一般的な蒸着速度を達成することができます。 本来、シリンドリカルマグネトロンは、同じ空間面積を持つプレーナーマグネトロンの最大3倍の量のターゲット材料を保持することができます。Angstrom ...

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パルスマグネトロン
パルスマグネトロン
HiPIMS

... 高出力インパルスマグネトロンスパッタリング(High Power Impulse Magnetron Sputtering、HiPIMS)は、パルススパッタリング技術の比較的最近の進歩であり、スパッタされた原子の大部分をイオン化するプラズマ放電を発生させるために、非常に高エネルギーで持続時間の短いパルスを使用する。イオン化されたフラックスは、コーティング特性の制御を高めるために誘導することができる。 オングストローム・サイエンス社は、1500ワット/in2以上の極端な出力密度を維持できる一連のスパッタリングカソードを開発しました。特許取得済みの乱流ターゲット冷却に加え、アングストローム・サイエンシズの高インパルスパワーパルスマグネトロンスパッタリングカソードには、プロセス動作中に最適な冷却を維持するため、アノード本体と取り付けフランジに追加の冷却チャンネルが組み込まれています。 その他の特徴として、ターゲット寿命を通じてターゲット表面の電界強度を一定に保つパッシブおよびアクティブマグネットアレイがあり、これはHIPIMSプロセスにおいてアーク放電の低減とスパッタされた材料の最適なイオン化の両方に重要です。 これらの特徴は、固体アノード構造とともに、HiPIMSやあらゆる高出力長時間稼働アプリケーションのような要求の厳しいアプリケーションにおいて、一貫した再現性のある性能を可能にします。 HiPIMSマグネトロンは直接冷却式で、円形、直線、円筒形の設計があります。 ...

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円筒形マグネトロン
円筒形マグネトロン

... オングストローム・サイエンス社は、マグネトロンスパッタリング用途にもたらす最先端技術で国際的に知られています。この度、既存のBOCCT / HRC / HLK / CVC / Cylindrical / MRCやその他のOEMのカソードに、当社の特許取得済みプロファイル磁石設計をレトロフィットする方法を開発しました。当社の設計と高度なモデリング能力を用いて、より良いターゲット利用、均一性の向上、微粒子汚染の減少を提供する性能の向上を設計することができます。 アングストローム・サイエンシズは、世界最先端のマグネトロン、高品質の蒸着材料、包括的な技術サポートを提供することで、お客様が最も生産的で費用対効果の高い薄膜アプリケーションを開発するお手伝いをすることに専念しています。 また、お客様にご満足いただけるよう、万全の体制を整えております。マグネトロンを業界最長の2年保証でサポートするのはそのためです。 ...

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フラットマグネトロン
フラットマグネトロン

... アングストローム・サイエンシズは、マグネトロンスパッタリングアプリケーションにもたらす最先端技術で国際的に知られています。この度、既存の円筒形マグネトロンに当社の特許取得済みプロファイル磁石設計をレトロフィットする方法を開発しました。 経済的なソリューション 円筒形マグネットのレトロフィットは、既存の円筒形アセンブリを交換するコストの約3分の1で、上記のすべての利点を提供します。 -磁石はステンレス鋼で完全に密閉されています。 -高効率の水流 -既存のすべてのターゲット設計と互換性あり -シームレスな統合 -調整可能な均一性 -高度なターンアラウンドにより、より平坦なエロージョンプロファイルが得られます。 -蒸着プロファイルの改善により、チャンバー壁面へのデブリ蓄積を低減。 -より高い電界強度が、より低い出力レベルで一般的な蒸着速度を達成。 ...

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ロータリーマグネトロン
ロータリーマグネトロン

... 高出力RFマグネトロンスパッタリングカソードは、特定の設計基準が建設に組み込まれていれば、研究開発および生産アプリケーションで成功裏に実施することができます。 円形ハイパワーRFマグネトロンは直接冷却され、外径2″~8″で入手可能です。 RFパワーは高周波で動作するため、マグネトロンスパッタリングカソードがそのパワーを抑制するように設計されていることが重要です。オングストロームサイエンスのハイパワーRFマグネトロンは、低反射電力とRF閉じ込めを提供しながら、RFエネルギーをターゲット表面全体に均一に供給するように設計されています。 ハイパワーRFマグネトロンは、サーキュラーとリニアの両方の構成でご利用いただけます。 ...

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オーダーメイドマグネトロン
オーダーメイドマグネトロン

... 今日のコンパクトディスク業界は、ますます複雑化する生産上の課題に直面している。フィルムの均一性に対する要求は不変ですが、プロセスの経済性は、材料コストの変化によって劇的に変化します。 多くのディスク・メーカーにとって、それは2つの大きく異なるシステムを導入することを意味します。1つは低コストの材料で最大のスループットを達成するため、もう1つは貴金属やその他の高価なターゲット材料で高いターゲット利用率を達成するためです。 オングストロームサイエンスのCD/DVDマグネトロンは、マグネットアレイをドロップインできるように設計されているので、技術者は一つのシステムで標準化でき、性能を最適化するためにアレイを交換するだけです。 オングストローム・サイエンスのCD ...

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円筒形マグネトロン
円筒形マグネトロン

... SIDABREは、平面および円筒形状を有するシングルおよびデュアルマグネトロンを開発し、別個の部品として使用することも、システムに統合することもできます。 これらのデバイスは、クランプまたは接着ターゲット、直接または間接冷却、外部または内部の電源および冷却水の接続などの特別な機能を装備することができます。 矩形ターゲットと円筒ターゲットの最大使用 可能長さは 2.0 m で、円形ターゲットの最大直径は 400 mm です。 私たちは、特定のプロセスの要件に応じて、ターゲットまたは磁石のいずれかで回転を行う円筒形の回転可能なマグネトロンを開発します。 ...

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