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真空範囲: 1 mbar - 1,000 mbar
... VACUU-SELECTコントローラは、基本的なポンプや強力な真空ネットワークなどの真空源でサポートされているアプリケーションに、プロセス効率の向上を提供します。VACUU-SELECTコントローラは、あなたをサポートします。VACUU-SELECTコントローラは、手動での設定値制御や、あらかじめ設定されたアプリケーションをボタン一つで実行したり、ドラッグ＆ドロップでオリジナルのアプリケーションを作成することができます。このコントローラは、実験室の足場に設置可能なベンチトップ型と、実験室のケースワーク用の内蔵型の2種類があります。一体型コントローラには、真空コントローラ「VACUU-SELECT」、逆止弁、耐薬品性のある電磁分離弁が含まれています。VACUU-SELECTには、セラミック製の真空センサーと通気弁が内蔵されています。コンパクトな本体は、設置や設定が容易です。VACUU-SELECTコントローラは、アプリケーションベースの直感的なインターフェースを備えており、一般的な研究室で使用されるすべてのアプリケーションに対して、あらかじめ定義された真空プロセスを提供します。溶剤の蒸発の場合は、沸騰圧力を検知し、2点制御で圧力レベルを安定させることができます。 性能の特徴 - ...
真空範囲: 0.001 mbar - 1,000 mbar
... 概要 VACU·SELECT微細真空制御パッケージは、10-3 mbarまでの作業のための使いやすい真空制御オプションを提供します。 これらのパッケージには、微細真空ゲージを備えたVACU·SELECTコントローラ、耐薬品性インライン絶縁バルブ（VV-B 15C）、小型フランジ（KF）接続を介した真空システムへの接続に必要なアクセサリが含まれます。 VACUBRANDは、2つの異なる小さなフランジ接続を備えた微細な真空制御パッケージを提供しています。 KF DN ...
真空範囲: 0.1 mbar - 1,000 mbar
... 直感的で使いやすい真空コントローラーをお探しですか？VACUUBRANDでは、ラボスケールの真空プロセスに対応した、タッチスクリーンを備えたアプリケーションベースのコントローラー「VACUU-SELECT」を発表しました。VACUU-SELECTコントローラは、以下のような特徴があります。VACUU-SELECTコントローラは、手動による設定値の制御、蒸留の自動化、ドラッグ＆ドロップによる独自のアプリケーションの作成が可能です。あらかじめ定義されたアプリケーションを使用する場合は、アプリケーションを選択してスタートボタンを押すだけです。コントローラは、真空プロセスの完了まで独立して管理します。溶剤の蒸発では、コントローラーが沸点を検出し、必要に応じて真空プロセスを調整します。真空プロセスを忘れて、他の作業に集中することができます。VACUU-SELECTコントローラーは、使いやすく、効率的なコントローラーとして、研究室に貢献します。 性能の特徴 バリオのダイヤフラムポンプとの組み合わせでは、モーターの回転数を調整することで正確なバリオ制御が可能です。 インラインソレノイドバルブの開閉による古典的な2点真空制御 ...
説明：ベズウィックエンジニアリングのVRDは、単段の真空レギュレータです。真空源の後に一列に配置されたとき、それは-12.7 PSIG（4-HG）まで0 PSIG（IN-HG 29.5）から真空を制御します。 おおよその重量：真鍮、ステンレス（303＆316）で25G、アルミニウムで15グラム。重量は、システム構成に応じて、多少異なります。2インチを選択します。高解像度キャップオプションは、総重量に対して約50〜60グラム追加されます。 移植： 10-32雌ねじ入口および出口ポート。真空源は、入口（深い）ポートに接続しなければなりません。 これは、ノンリリーフレギュレータ。あなたは、ノブを回すことにより、真空設定（大きい真空）を増やすことができます。あなたは大気中への下り回線を発散しない限り、あなたは、初期設定から真空の設定（以下真空）を減少することはできません。
... 電気真空ポンプに接続すると、REVシリーズ真空レギュレーターはシステム内の真空度を正確かつ安定させます。調整ノブにより、非常に細かい調整が可能です。 特徴 .調整精度： 3.4 mbar .スルーフロー：85 Nl/分～-846 mbar .ネジ式ピンによる調整 仕様 材質 ボディアルミニウム 内部システム：真鍮、亜鉛メッキスチール エラストマーニトリル ...
... パーカーP3RA171は、真空供給量の変化に左右されない均一な真空レギュレーションを実現する高精度真空レギュレーターです。 また、フルデマンドで性能を向上させることができます。このユニットは真の真空レギュレータであり、空気を逃がして真空を制御することはありません。 をシステムに導入してください。このレギュレータは、真空源とプロセス自体の間に取り付ける必要があります。真空レギュレータユニットは、ダイヤフラム アセンブリには 3 つのスプリングを使用しており、ダイアフラムの負荷をよりバランスよくすることができます。別のコントロールチャンバーは、ダイアフラムを ハンチングやブザーをなくすために、メインフローを変更することができます。 追加オプションとして、ノンリリーフダイアフラムとスクリュードライバー調整があります。 市場 - ...
... 負圧を調整する機能を持ち、流量や一次側ネットワークの真空度の変動に関わらず、負圧を設定値で安定させることができます。 本機は二重ダイアフラム構造で、二次側圧力と大気圧の差圧を利用するよう設計されています。真空度は、調整ノブを回転させることで得られます。ノブを時計方向に回転させると真空度が増し、反時計方向に回転させると減ります。 メインネットワークの真空度に関係なく、他の用途でより低い真空度を必要とするすべての集中型システムで使用されます。 ...
真空範囲: 7.5 mbar - 150 mbar
... VSO-EVは、精密真空制御が必要な実験機器向けに設計された電子真空圧力制御ユニットです。 VSO®-EVは、精密な真空制御のために特別に構成され、最適化された小型の電子真空コントローラです。 VSO®-EVは、可変電気制御信号を閉ループで厳密に調整された空気圧出力に変換します。 ピペットディスペンサー用の液体サンプルを吸引するためによく使用されるVSO®-EVは、内部の真空センサーを使用して、重要なシステムパラメータに対する閉ループ制御を提供します。 VSO®-EVは、最も厳しい分離と検出の要件を満たす、高精度の自動ラボ機器に最適です。 ...
真空範囲: 2 mbar
Y696VR シリーズの真空レギュレータは、タンクと真空源の間など、真空低下を制限する必要がある場合に使用し、タンク内の真空制御を行います。 ダイアフラムでの真空低下（絶対圧の増加）によりシートからディスクを離し、より高い真空源によりシステムを設定値に戻すことができます。 機能 -低圧力設定の精密制御 -耐食性 -設置融通性 -広範な材質の選択肢 -高キャパシティ -機能 6 -機能 7 -機能 8 仕様 最大制御圧力 -完全真空 ...
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