プラズマ発生器

... Arcojet® PG 051Pは、より小さなプラスチック部品、特に押出ラインのプラスチックプロファイル、射出成形部品、カップやチューブの処理に使用され、接着剤接合や印刷前に使用されます。 最大15m/分の治療速度に対応できます。 Arcojet ユニットは、アース付きカウンター電極を必要としない自由に放射する電極で構成されています。 発電機は高電圧アーク放電を生成し、これは電極から空気流を介して処理される表面に伝達される。 このようにして生成されたプラズマは、印刷インク、塗料、接着剤などが付着することができるように、プラスチック表面を活性化するために使用される。 ...

... TruPlasma Bipolarシリーズ4000（G2.1）プロセス電源は、PVD、PECVD、反応性スパッタリングプロセスによるプラズマアシストコーティング用に特別に設計されました。フレキシブルに形成可能な出力信号と洗練されたアーク管理により、太陽電池や半導体の製造、装飾層や耐摩耗層の成膜、建築用ガラスのコーティングに優れた結果をもたらします。 極めて低いアークエネルギー 完全にデジタル化されたアーク管理により、最高のコーティング品質と生産性を実現します。 設定可能な波形 出力信号を変化させることで、様々なプロセスに簡単に対応。 1台のジェネレーターで様々なアプリケーションに対応 DC、パルスDC、バイポーラ：多様な設定によるコスト削減 一体型ウォータークーラー 外付け部品が不要なため、わずかなスペースで済みます。 ...

... TruPlasmaハイパルスシリーズ4000（G2）のジェネレータは、DCスパッタジェネレータの代替として、既存のマグネトロンシステムで変更なく使用することができます。高耐食性、耐摩耗性の硬質材料コーティングを提供するため、高出力インパルスマグネトロンスパッタリング用途の最初の選択肢となります。 完璧なコーティング結果 最大4メガワットの非の打ち所のないピークパワーは、高イオンフラックスで極端なプラズマ密度を生成します。 フレキシブルに使用可能 既存のカソードシステムやプロセス条件に簡単に適応できるため、最適な装置統合が可能です。 HiPIMSアプリケーションのファーストチョイス パルスPVDスパッタプロセスの最新開発として、HiPIMSは特に耐食性および耐摩耗性の硬質材料コーティングを提供します。 様々な用途 DCモードでも使用でき、DCジェネレーターの追加は不要。 ...

... 空冷式RFジェネレーターTruPlasma RF 1001 Airは、最大1000Wの高精度で再現性の高いRFエネルギーを100mW単位という極めて微細な分解能で供給するため、多様なプラズマアプリケーションに適しています。半導体、太陽電池、ディスプレイの製造のいずれにおいても、特許取得済みのTRUMPF Hüttingerテクノロジーは、最新のプロセス機能により、最高の信頼性と最高のプロセス結果を保証します。 スマートな自動周波数調整 最適かつ高速な周波数チューニングを保証し、ジェネレーターとマッチボックス間の最適な相互作用を実現します。 高精度アーク管理 要求の厳しい新しいプロセスの安全な操作により、製品を確実に保護します。 マルチレベルパルシング マルチレベルの柔軟なパルス形状制御により、最新のプラズマプロセスにおけるプロセス結果を改善します。 プラグ＆プレイ プロセスの変更やレトロフィットの際に、ジェネレーターの柔軟な使用と交換が可能。 安定したプラズマプロセス 特許取得済みのCombineLineテクノロジーは、50オームの真の出力インピーダンスにより、均一なプロセスパワーを保証します。 均一なジェネレーター技術 RF製品ファミリーの様々なパワークラスにより、あらゆるプロセス要件に対応できます。 ...

... 表面のコーティングや構造化の決め手となるのは、安定した再現性のあるプラズマ電流の供給です。TruPlasma RFシリーズ1000 / 3000 (G2/13)のRFジェネレーターは、最先端のパワーエレクトロニクスにより、このための最良の条件を提供します。安定した出力と高い制御精度は、高い生産性を維持しながら最高の結果を保証します。 高い精度と再現性 CombineLineテクノロジー：真の50Ω出力インピーダンスによる最適なプロセスパワー。 RFケーブルの長さに依存しない ケーブルの長さを調整する必要がなくなりました。 堅牢で安全 CombineLineテクノロジー：ミスマッチ時の反射電力から確実に保護します。 効率的でコスト効率 最大80%の効率により、エネルギーコストを最大50%削減できます。 送風機不要の冷却ソリューション 周囲空気の加熱や汚染がないため、クリーンルームでの運転も可能です。 ...

... TruPlasma VHFシリーズ3000ジェネレーターは、革新的なプラットフォームコンセプトに基づいており、最高レベルの出力密度を実現し、最も厳しいプロセス要件に対応します。モジュール式の純水冷構造により、出力は最大80kWまで拡張可能です。このコンパクトなVHFジェネレーターは、コスト効率も高く、堅牢な設計となっています。 正確で高速な任意のパルス形状 現在のシングルレベルおよびマルチレベルパルシングに最適なプラズマプロセス制御を提供します。 最小ランプ時間 ...

... TruPlasma DCシリーズ4000（G2）は、重質材料の反応性DCスパッタリング用に特別に開発されました。パルス直流電流で動作するこのジェネレーターは、最高のコーティング品質と生産性の両方が要求される重要なPVDおよびPECVDプロセスにおいて、特に高い実績を誇っています。コンパクトなDCプロセス電源は、パルスモードとバイアスモードの両方で使用できます！ 高い成膜品質と生産性 デジタル信号処理により、安定したプロセスと最小限のアーク関連時間ロスを保証します。 重要なプロセスでも最高の結果を DCパルステクノロジーと組み合わせた高速アーク処理により、基材へのダメージを最小限に抑えます。 簡単なプロセス調整 広範な周波数スペクトルと調整可能な逆電圧による コンパクトで堅牢な設計 冷凍機一体型のため、省スペースでメンテナンス費用が削減できます。 ...

... TruPlasma Arcシリーズ3000製品ファミリーは、過酷な産業環境におけるアーク陰極プロセスの重要なコンポーネントです。このジェネレーターは、特に硬質材料や装飾コーティングに威力を発揮します。さらに、イオン注入や同様の要件を持つDCアプリケーションなど、多くの高出力アプリケーションのエネルギー源として選ばれています。 硬質材料コーティングに最適 最先端の分析手順とデジタルフィードバックにより、プロセス制御を改善。 アーク陰極プロセスに最適 複数のジェネレーターの並列接続による高い電流強度と出力 コンパクト設計 一体型空冷により、貴重なスペースを最適に利用できます。 将来への備え 多様なインターフェース（例：アナログ、ProfiBUS、RS232/485）によるシンプルなシステム統合。 ...

... TruPlasma RFシリーズ3000は、その堅牢な設計と高効率が特長です。これは、半導体、太陽電池、フラットスクリーンの製造に使用されるような、安定した再現性のあるプラズマプロセスに最適であることを意味します。世界中の何千ものアプリケーションに設置されているこれらの発電機は、高レベルの生産性と優れたプロセス結果を保証します。 効率と費用対効果 最大80%の効率により、エネルギーコストを最大50%削減できます。 優れたRFアーク管理 要求の厳しい新しいプロセスでも安全に操作できます。 極めて堅牢で高いプロセス安定性 CombineLineテクノロジー：不一致時の反射電力に対する信頼性の高い保護。 最大限の柔軟性 連続またはパルス出力により、多様なアプリケーションに対応します。 ...

... 新しいTruPlasma Match Series 1000 (G2/13)マッチボックスは、TRUMPF HüttingerのRFジェネレーターを理想的に補完します。そのインテリジェントなマッチングアルゴリズムとプロセス監視用のデジタル制御プラットフォームは、すべてのコンポーネントが最適に連動する包括的なソリューション、すなわちトルンプのRFシステムを提供します。 インテリジェントマッチングアルゴリズム クリティカルなプロセスにおいても、50オームまでのインピーダンスマッチングを高速、安定、かつ再現性よく行うことができます。 システム全体の最適な相互作用 進化したソフトウェアと、ジェネレーターとマッチボックス間の通信の改善。 RFパワーのリアルタイム測定 マッチボックスと負荷のインピーダンスの変化に対する高速システム・トラッキング クローズドループ制御 プロセスパラメーターの最適モニタリングと早期アーク検出 ユーザーフレンドリーなプロセス監視 グラフィカルなユーザーインターフェースと効果的なツール（スミスダイアグラム、リアルタイムオシロスコープ）。 ...

... TruPlasmaシリーズMF 7000 (G2)は、プロセスを常にコントロールすることができます：優れたアーク管理と点火動作により、デュアルマグネトロンスパッタリング中の大面積コーティングや要求の厳しい反応性プロセスの電源として最適です。90%以上のピーク効率と、特に効率的な冷却水管理を特徴とするこの発電機は、運用コスト効率も非常に優れています。 最高のコーティング品質と生産性 最も困難なリアクティブプロセスにおいても、優れた結果と高い成膜率を実現します。 最大効率 ピーク効率90%以上、運転効率80%以上を達成。 あらゆる環境条件下で安定した電源供給 冷却水温度が高く、差圧が低い場合でも、確実に機能します。 世界中で使用可能 供給電圧が可変なので、技術的な調整が不要。 ...

FG5001ジェネレーターは、プラズマトリート社のプラズマジェネレーター5000シリーズの基本となる装置です。この装置は、非常にコンパクトな設計を特徴としています。そのためカウンターの下に設置するなど、スペースを節約することができます。 このクラスの製品としては初めて、定圧電源を実現しました。このシリーズには、最新型IGBT半導体増幅装置が設置され、高精度のプラズマ出力調節・制御機能と最高レベルの性能を兼ね備えています。FG5001ジェネレーターは、オプションとして最大2個のプラズマノズルを用いて運転することができます。 標準用途 パッド印刷システムなど、完成したシステムへの組み入れ 汚染の少ない製造区域におけるシンプルな用途 プラズマトリート社のラボ用システム、連続調整可能な線形ユニットとシングルプラズマノズル付の実験台（静止型、回転型） Openair-Plasma®プロセスサンプルテスト用システムの貸与 FG5001プラズマジェネレーターの主な特長 一体型小型コントローラーによるシステム制御・出力制御 出力：1000 ...

このプラズマジェネレーターでは、プラズマトリート社が開発したプロセス制御装置を用いて、Openair-Plasma®マジェネレーターの作動と運転状態のモニタリングとを同時に行うことができます。それにより、短い反応時間で非常に高速のプロセスを管理することが可能です。また、各種の内蔵センサーにより、プラズマジェットの不具合を直ちに検出することができます。 グラフィックモニターには、プラズマジェネレーター、プラズマノズル、メンテナンススケジュールに関する情報が判りやすく表示されます。 この極めて信頼性の高いプラズマジェネレーターの技術により、最大4台(FG5002)または8台(FG5005)のプラズマジェットを同時に稼働することが可能です。 標準用途 完成したシステムへの組み入れ 厳しい環境条件下におけるマルチシフト運転に適した特長 各種業界における工業用途 2個以上のプラズマノズルを必要とする用途 FG5002/FG5005ジェネレーターの主な特長 一体型小型コントローラーによるシステム制御・出力制御 出力：2kVA ...

最高の性能を備えたプラズマジェネレーター FG5000シリーズは、最新の半導体技術と数多くのセンサーを組み合わせ、最高の使いやすさを実現しています。プラズマチャンバー内の圧力、電流、電圧、周波数を測定する一体型アナログモニターを使用し、プラズマからの発光分析を行うことによって、プロセス信頼性を最大限に高めています。 プラズマジェネレーターの制御を行うタッチスクリーンコントロールパネルには、使いやすく、判りやすい設計が施されています。このパネルには、シグナルチェーン機能付の高レベル・低レベル制御装置が組み込まれています。 標準的な用途 完成したシステムへの組み入れ 厳しい環境条件下におけるマルチシフト運転に適した特徴 さまざまなプロトコル機能を必要とする工業用途 ロボット補助製造システム FG ...

Plasmatreater AS400は、実験に最も適した条件を備えた製品です。このラボ用プラズマシステムは、プラズマクリーニング、プラズマ活性化、ナノコーティング（プラズマポリマーコーティング）のパラメータの決定に最も適したシステムです。 それぞれのプロセス要件とお使いになる材料特性にとって必要なすべてのプラズマパラメータが、再現可能であり、連続生産に近い状態で評価されます。処理速度やプラズマノズルと処理材との距離などの要素については、コンピュータを利用して測定し、記録します。 オプションとして、AS400を拡張し、繊維分野の実験用の糸巻き取り装置や、不織布やフィルムなどリボン状に巻かれた材料のための実験用ローラーシステムなどを組み込むこともできます。 応用分野： 接合、塗装、印刷前の表面処理 超微細クリーニング ポリマー表面の活性化 表面における疎水性ポリマー層の形成（防食処理、傷防止機能） 表面における親水性ポリマー層の形成（接着性の改善） バリア層の形成

... eVerest™RFジェネレーターは、半導体産業が新たな転換期に向かって加速する中、変革的なプラズマ制御のニーズを満たします。設定可能なマルチレベルパルシングにより、瞬時またはユーザー定義のトランジションタイミングが可能です。さらに、広い周波数掃引範囲を持つ高速、高精度モデルベースの周波数チューニングにより、プロセスの安定性と制御性が向上します。これらの機能に加え、より高速なセットポイント応答、パルス状態開始時の制御されたオーバーシュート、および洗練されたPowerInsight ...

... 汎用性の高いApex®シリーズのRFジェネレーターとパワーデリバリーシステムは、チャンバーマウントに適したコンパクトなモジュール設計を誇ります。洗練されたRF変換技術を利用したApex RFジェネレーターと電力供給システムは、製品とプロセスの信頼性を向上させます。高密度パワー機能により、高度なプラズマプロセスに最適です。また、さまざまな通信モデルと設定可能な機能により、プラットフォームをカスタマイズし、統合アプローチを検討することができます。カスタムジェネレーターのリードタイムは不要です。 - ...

... 新しいプラズマ・アプリケーションのためのマルチレベル・パルシングとパルス波形制御 パルスRF製品で最も広範な機能セットを入手できます。Paramount Plusは、正確なRFレギュレーション、高度なパルス操作、高度なデータ収集を提供します。Paramount Plusは、周波数1～60 MHz、パワーレベル1.5～15 kWという広範なRFエネルギーをカバーするように設計されており、必要な再現性と信頼性を提供します。 パラマウントプラス パルスRF電源 マルチレベルパルシング、パルス波形制御、およびパルスRF電源で利用可能な最も広範な機能セットを備えています。 パルスRF製品で利用可能な最も広範な機能セットを備えたParamount® ...

... 動作の柔軟性に新たに焦点を当て、プロセス開発を進めましょう。Paramount® HF RFジェネレータは、広い出力範囲を提供し、複数の統合シナリオをサポートし、標準シリアル/アナログインターフェースやその他のオプションの通信インターフェースを装備しています。Paramount HFは、高アスペクト比デバイスに必要な高プラズマ密度とイオンエネルギーを可能にし、半導体プロセスツールの次のノードに向けたプロセスを高速化します。Paramountプラットフォームのデジタル・アーキテクチャは、正確なパワー・マネージメントを提供し、新機能の統合を合理化します。プラズマの変化をリアルタイムで検出することで、高出力と再現性の高い性能を実現します。また、内部保護リミットにより、信頼性の高い動作を実現します。 - ...