PECVD貯蔵マシン

... プラズマエンハンスト化学気相蒸着法（PECVD）は、プラズマ内のエネルギーを利用してウェハー表面での化学反応を加速し、400℃以下の温度で薄膜を生成するプロセスである。成膜中に高エネルギーのイオン照射を行うことで、薄膜の電気的・機械的特性を調整することができます。SPTS Delta™ PECVD装置は、アドバンスト・パッケージング、RF、パワー、フォトニクス、MEMSの各市場において、特に低い処理温度が要求される幅広い用途に使用されています。Delta™ fxPクラスターシステムは、80℃から400℃までの成膜温度で、広範囲の誘電体膜に対応するプロセスの包括的なライブラリを提供します。また、このシステムには、高感度基板のガス抜き用の枚葉式および多葉式プリヒートチャンバーオプションと、ウェーハ裏面蒸着用のエッジコンタクト処理機能もあります。 - ...

... 主に、結晶シリコン太陽電池の製造における最高品質の反射防止膜の生成や、太陽電池の裏面のパッシベーション膜の成膜に使用されます。 グラファイトボート＆ウェハー準備→窒素導入→グラファイトボート投入→真空化、圧力テスト→アンモニア前洗浄、チェック→チューブ真空化、リークチェック、恒温→プレコート→コーティング→真空化、圧力テスト→チューブ洗浄、窒素導入→グラファイトボート降ろし。 - SiOxNy PERCプロセスに対応。 - ダブル冷却水フランジのシール技術。 - ...

... LEYBOLD OPTICS DLCは高真空プラズマ強化化学気相蒸着（PECVD）システムであり、主に熱イメージングシステム用の赤外線（IR）アプリケーションで使用される反射防止（AR）コーティングを適用します。 業界のリーダーは、LEYBOLD OPTICS DLC 装置を使用して、この機械内の基板に適用される極めて硬く環境に強い光コーティングによって光学機器を損傷から保護しています。 非常に硬い層の表面を実現するシステム 設計 LEYBOLD OPTICS ...

... 科学研究用コーティング装置 実験用真空コーティング装置は、美しい外観、コンパクトな構造、多様な性能、シンプルで信頼性の高い操作性、低消費電力という特徴を持っています。蒸着コーティング、マグネトロンスパッタリングコーティング、アークコーティング、CVD、PECVDなどのプロセスを実現します。手動、半自動、全自動での制御が可能です。豊富なサイズとモデルをご用意しています。 ...

... 生産実績のあるTitan Deposition は、真空カセットエレベータを備えた積載ロックされた堆積システムです。 PECVD、HDCVD、PVD、またはALD 用に設定できます。 Titan Deposition は、革新的で最先端のプロセスを小さなフットプリントで手頃な価格で提供します。 SiOx、SiNx、SiC、a-SiSiの再現性の高い堆積のために、標準的な生産プロセスが開発されています。 迅速なプロセス開発における25 年以上の経験に裏打ちされています。 ...

... 高効率結晶シリコン電池のプロセスにおける緻密なアルミナやその他のバックパッシベーション膜材料の成長に適している。 様々な膜を連続的に切り替えます； ボートを押す機構を両端でサポートし、ジッターをなくし、速度を向上させ、負荷を増加させ、信頼性を大幅に向上させる（特許）。ボートの出入り時間は20秒以内（ボートの離脱を除く）； 特殊形状の二重炉扉機構により熱損失を低減（二重炉扉構造特許）； グラファイトボート電極技術：電気電極の表面接触、前後の電極を補い、尾電極は炉管の外で調整可能； 急速冷却炉体：最新の特許技術を採用し、炉体温度を必要な温度まで迅速に下げることができ、冷却速度を25%以上向上させ、炉管内の温度均一性を大幅に改善します； 特許を取得したボート収納位置の平行放熱モード：冷却効果を向上させ、冷却時間を15％以上短縮させ、コンソールの前面から底部と吸気口を避け、コンソールの内部清浄度を向上させる； 石英管補助吊り具：石英管の取り付け、メンテナンス、交換の難易度を大幅に下げる； 間接プラズマより膜のコンパクト性が高い； ...