電子機器用溶媒
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... Flux-Off® No Clean Plus Flux Removerは、重く付着したフラックスを除去する強力な溶剤です。この高圧エアゾールまたはバルク液は、あらゆる種類のフラックス、酸化物粒子、埃、グリース、オイルを素早く浸透させ、残留物を残さず素早く蒸発させることができます。 ブラシクリーン™システム - ブラシの優しいスクラブ作用と高性能フラックス除去剤の組み合わせで使用できます。詳しくはこちらをご覧ください。 特長と利点 あらゆる種類の付着・焼付フラックスを除去します。 優れた洗浄力 可燃性 速乾性 残渣を残さない All-Way ...
CHEMTRONICS
... 接点修復、あらゆる電気・電子・電気機械器具の洗浄・脱酸に特化したドライ溶剤クリーナー。汚れ、残留物、グリース、ワックス、接着剤、ほこり、酸化を完全に除去します。素早く蒸発するため、部品は乾燥し、残留物も残りません。 用途 電気・電子機器、モーター、発電機、電気パネル、リレー、スイッチ、端子台、コネクター、キーボード、ジョイスティック、センサー、電話システム、警報システム、テスター、実験器具などに適しています。 利点 電気接点の再活性化 徹底的な洗浄と脱脂 素早く蒸発 残留物を残さない ...
... Permatex Electrical Contact & Parts Cleanerは、電気および電子デバイスのクリーニングに適しています。蒸発が速く、腐食性のないクリーナーで、残留物を残しません。 特長 - 電気・電子機器のクリーニング用 - 蒸発が速く、腐食性のないクリーナーで、残留物を残しません。 - すべての金属とほとんどのプラスチックに安全 - グリース、汚れ、オイル、フラックス、その他の表面汚染物質を除去します。 推奨用途 - 電子部品:回路基板、コンピューター部品、リレースイッチ電気部品:電気モーター、発電機、スターター、ポンプ、モーター巻線、ソレノイド、コンプレッサー ...
フォトレジスト用途では、精密なレジストのエッジビード除去(EBR)が要求されています。そこで当社は、純度、パッケージ、環境保護に関する業界標準を維持しながら、世界クラスのエッジビード除去を実現するEBRソリューションを開発しました。 • - 製品の純度は、最新の分析ツールを用いて継続検証しています。 • - 米国、欧州、アジアの各拠点の工場で製造しています。 • - パッケージのオプション: o - 4リットルボトル4本 o - 200リットルのドラム缶(1wayまたはリターナブル) o ...
Fujifilm NDT Systems/富士フイルム
... オリジナルのSafewash(SWA)は、生分解性溶剤を含む水性「Safe」ソルベントクリーナーです。 セーフウォッシュ(SWA)は、生分解性溶剤を含む、水ベースの「安全」な溶剤洗浄剤です。SWAは、フラックス残渣の除去や、繊細な金属を含まない多くの洗浄用途に最適です。SWAは、メッキ作業の前にマイクロエッチングプロセスとして使用することができ、汚染物質を除去し、わずかに粗い表面を残します。これにより、メッキ材料の優れた結合が可能になります。 主な特性 軍用規格(ANSI-J-001B/IPC ...
... オゾン層破壊物質を含まない、気化速度の速い高性能溶剤型脱脂洗浄剤。極性・非極性溶剤により、汚れ、水分、軽油を除去します。 特徴 蒸発速度が速い HFC、HCFC、TCE、DCE、n-PBrを含まない。 すべての金属とほとんどのプラスチックに安全 低残渣、高純度 オゾン層破壊物質を含まない NSF登録済み-K2 ...
... Opteon™ SF-79は、環境に優しく、地球温暖化係数(GWP)が低く、オゾン層を破壊しない処方で、優れた洗浄力、高効率、安全性を提供するように設計された次世代の高性能特殊洗浄液です。蒸気脱脂、PCB基板の精密洗浄、低温洗浄、グリースやオイルの除去に最適です。Opteon Sion|SF-790は、多くの要求の厳しい洗浄用途において、臭化ノルマルプロピルとTCEの優れた代替品です。Opteon™ Sion|SF-79は、業界をリードする溶解力(KB値)と、改善された安全性と環境特性により、蒸気減少用にますます選ばれています。以下のような利点があります: 優れた洗浄性能(Kb値=103) 優れた環境プロファイル低GWP(15未満)、ODPなし 速乾性と低沸点(47) nPBとTCEの理想的な代替品 Opteon ...
Miller-Stephenson Chemical Co
... ハンツマンでは、半導体の洗浄、エッチング、または剥離の用途向けに、さまざまな構造を持つ低微量金属グレードの第四級アミンを製造しています。ハンツマンの第四級アミンは、低腐食率と扱いやすさを兼ね備えており、水溶液と非水溶液の両方でTMAHよりも高い濃度で使用できます。 フォトレジスターの現像と剥離 エッチングおよび除去 太陽電池のテクスチャー処理 ポストケミカルメカニカル平坦化洗浄 低微量金属、高純度 最大45%の濃度で使用可能 水溶液および非水溶液で使用可能 E-GRADE® ...
Huntsman Advanced Materials
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