レーザーリトグラフシステム

スポット型電子ビーム描画装置JBX-8100FSは、従来装置よりもオペレーション中や描画中の無駄時間を極力省くことでスループットを向上させ、省スペース、低消費電力を実現した装置です。 特長 省スペース 標準の設置面積は4.9m (W) × 3.7m (D) × 2.6m (H) であり、従来機種よりも省スペース設計となっています。 低消費電力 通常時の消費電力は約3kVAであり、従来機種よりも約1/3に削減しました。 高スループット 高分解能描画モードと高速描画モードの2つのモードを有し、極微細加工から少・中量生産にまで対応しています。また、描画中の不要な時間を短縮し、更に最大走査スピードを従来比1.25～2.5倍の125MHz ...

スポットビーム描画装置において世界最高レベルのスループットと位置精度を兼ね備えた加速電圧100kVの装置です。最大試料サイズは300mmφウエハー、6型マスクまで対応し、ナノインプリント、フォトニックデバイス、通信デバイスなどの様々な分野の研究・開発から生産まで対応します。 特長 最大走査速度100MHzに加え、フィールドサイズ1000µm×1000µmにおいて重ね合わせ精度±11nm、フィールド接合精度±10nm、フィールド面内位置精度±9nmとスポットビーム機において世界最高レベルのスループットと位置精度を兼ね備えた100kV装置です。 位置決めDACは20bit、走査DACは14bitを採用しているため、描画データインクリメント1nmに対し、走査ステップが0.25nm単位とより高分解能となり、描画データをより忠実に再現できます。 走査速度を最大100ＭＨｚと高速化したことで、大電流描画時に短い走査ステップを維持できるため高い精度を要求するパターン描画においてもスループット向上が可能です。 LBC（レーザービームコントロール）による最小位置決め単位を0.15nm（λ/4096）と高分解能化することにより世界最高レベルの位置精度を実現しました。 弊社独自のオートキャリブレーション機能(自動補正機能)により、長時間描画において信頼のおける安定性を実現します。自動補正のタイミングは、任意の時間、各フィールドごとや、パターンごとに設定が可能です。週末や連休を跨ぐ様なオペレーター不在の長時間描画において非常に有効です。 最大試料サイズは300mmΦウエハー、6型マスクまで対応し、ナノインプリント、フォトニックデバイス、通信デバイスなどの研究開発から生産まで対応可能な装置です。材料カセット搬送システム（オプション）を追加することで最大10枚のカセットが装填できます。 ファインピッチコントロールプログラム（フィールドサイズ微小変調プログラム）を用いることでＤＦＢレーザーなどのチャープト周期回折格子の制作が可能です。

... ステップ＆リピート式ナノインプリントリソグラフィ装置 ステップ＆リピート式ナノインプリントリソグラフィによる効率的なマスター作成 EVG770 NTは、ステップ＆リピート（S&R）ナノインプリントリソグラフィのための汎用プラットフォームで、基板上の複雑な構造を効率的にマスター化したり、直接パターニングしたりすることができます。この方法では、最大30cm²までの小さなダイからテンプレートを均一に複製することができます。S&Rプロセスでは、そのダイを第2世代パネルサイズの基板までの大面積に複数回複製することができます。S&Rインプリントは、ダイヤモンドターニングや直描法と組み合わせて、ウェハレベルの光学部品製造やEVGのSmartNILプロセスに必要な原盤を効率的に製造するために頻繁に使用されます。このように、S&Rインプリントは、AR（拡張現実）導波路、光センサー、回折光学系、メタサーフェス、バイオメディカルデバイスなどの大量生産に欠かせない条件となっています。 EVG770 ...

Quantum X は、屈折・回折マイクロオプティクスのマスクレス微細造形のために開発された、世界初の2光子グレイスケール・リソグラフィシステムです。 Experience the new Quantum X Nanoscribeの新生Quantum X システムは、産業分野での生産プロセスにおけるプロトタイプやマスタの微細造形向けに設計されています。このマスクレス・リソグラフィシステムは、自由形状でのマイクロオプティクス、マイクロレンズアレイ、マルチレベル回折オプティクスの製造を再定義する画期的な製品です。 この世界初2光子グレイスケール・リソグラフィ（2GL®）システムは、グレイスケール・リソグラフィの並外れた性能に、Nanoscribeの先駆的な2光子重合技術による高い精度と柔軟性を兼ね備えています。 Quantum ...

... K&Sのリソグラフィは、所有コストを大幅に削減する専用ソリューションを開発することにより、先進包装用リソグラフィの画期的な製品を提供します。 LITEQ 500プロジェクションステッパーの主な特長と利点 最高スループット 最大2倍優れた所有コスト レーザーベースの光源 革新的な光学設計 高速ウェハ処理 モジュラーシステムアーキテクチャ 差別化ソフトウェア ...