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DCモーター配置システム
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繰返し精度: 0.5 µm - 2 µm
ストローク: 100 mm - 600 mm
速度: 25 mm/s - 200 mm/s
... XYZユニバーサル ガントリー カスタマイズ可能 - 高精度で汎用的なオーバーヘッド動作に最適 - 600 x 600 x 100 mmの非常に大きな移動範囲 - 繰り返し精度0.5 µmまでの高精度位置決めによる信頼性の高い一貫した結果 - 最大2 m/s2で微小サンプルのスループット時間を加速(特に頻繁なスタート-ストップフェーズが必要な場合 - エアベアリングによる低メンテナンスとフレキシブルな24時間365日稼動(パラメータ可変時 Z軸上のカスタマイズされた処理ヘッドまたはセンサーは、試料キャリア上を非常に高速で移動します。最大600 ...
Steinmeyer Holding GmbH
繰返し精度: 0.3 µm - 0.4 µm
積載量: 15 kg
ストローク: 200 mm - 1,000 mm
... 検査用XYZガントリー カスタマイズ可能 - 最大450 x 1000 x 1000 mmの大型部品の高精度検査に最適 - 極めて高い剛性により、ナノメートル領域の分解能を実現 - お客様固有の顕微鏡、カメラ、センサーに個別に対応 - 最高速度2420 mm/sの卓越した高スループット - 可変パラメータ下でのエアベアリングによる低メンテナンスとフレキシブルな24時間365日稼動 このXYZ位置決めシステムは、450 x 1000 x 1000 mmを超える大型で高さのあるサンプルの高精度測定に適しています。Z軸に特注の顕微鏡、カメラ、センサーを取り付け、XYZオーバーヘッド動作でサンプルを測定することができます。これにより、ナノメートル領域での高解像度イメージングが可能になるほか、2Dおよび3Dイメージング用の数多くの測定機能を備えている。 仕様 - ...
Steinmeyer Holding GmbH
繰返し精度: 0.2 µm - 2 µm
積載量: 15 kg
ストローク: 10 mm - 600 mm
... XY-2Z 4軸ガントリー(絞り付き カスタマイズ可能 - 連続動作でのスポット差分高さ測定に最適 - アパーチャー70 x 100 mm用の両面Zセンサーポジショナー - 振動減衰設計により、1µmまでの繰り返し精度に優れた処理値を実現 - エアベアリングサンプルキャリアによるエミッションの低減 - 優れた寿命とメンテナンスフリーの24時間365日稼動 このXYZガントリー位置決めシステムは、さまざまな計測アプリケーション用に2台のカスタムセンサー/顕微鏡を使用した高精度の両側検査プロセスを可能にします。1つ目のZ軸は固定トラバース上にあり、2つ目のセンサー/顕微鏡はアパーチャ下のZ軸に取り付けられています。エアベアリングサンプルホルダーは、Z軸上の2つのセンサー(それぞれ100mmの高さ調整が可能)により、開口部までXY方向にサンプルを移動させます。 仕様 - ...
Steinmeyer Holding GmbH
繰返し精度: 0.01 µm - 2.5 µm
速度: 5 mm/s - 35 mm/s
... カスタマイズ可能: - 医療、バイオテクノロジー、半導体技術における高精度3Dプロセスの開発とセットアップに最適 - μmレンジの安定性による細部の超微細イメージングと高いズームレベル - 最大35mm/sの高速回転による短いサイクルタイム - 最大2.5 µm、最小0.02°までの回転運動による高い再現性 - 長期信頼性の高い標準軸により、非常に長い耐用年数と低メンテナンスを実現 この9軸位置決めシステムは、注射ノズル、ステント、小型切削工具、カニューレ、その他の回転対称部品など、顕微鏡や高解像度カメラであらゆる角度からサンプルを観察することを可能にします。KLT310の堅牢で剛性の高い標準コンポーネントとXYZ用PMT160で構成され、さまざまなタイプの顕微鏡を取り付けることができます。 仕様 - ...
Steinmeyer Holding GmbH
繰返し精度: 0.3 µm - 0.4 µm
積載量: max 30.0 kg
ストローク: 100 mm - 200 mm
... 変動荷重・移動荷重用XYZ測定システム カスタマイズ可能 - 部品測定や高さのある部品の3Dプロファイルの取得に最適 - 荷重に左右されない高精度測定(±1 µm、移動物体でも測定可能 - 測定誤差を5 µrad以下に大幅に低減 - 完璧な真直度±0.5 µm、平面度±1 µm - 平坦度に依存しないインターフェースと調整機能 このXYZ位置決めシステムは、変動荷重や移動物体の高精度測定用に特別に設計されています。異なる重量クラスの物体を次々に測定しなければならない場合、従来の測定ステージではすぐに限界に達してしまいます。 仕様 - ...
Steinmeyer Holding GmbH
繰返し精度: 0.3 µm - 0.5 µm
ストローク: 50 mm - 200 mm
速度: 30 mm/s
... 高精度自動光学検査用XYZ位置決めシステム カスタマイズ可能: - 高精度自動検査プロセスに最適 - 0.3 µmまでの高い繰り返し精度 - 測定誤差を3μm以下に低減 この3軸位置決めシステムは、XYステージがZ軸上のセンサーやカメラに対して極めて低いピッチ誤差とヨー誤差で測定対象物を移動させるような高精度測定アプリケーション向けに開発されました。例えば、高さのある部品の測定や3Dプロファイルの記録などがこれにあたります。 仕様 - 標準システムKT310-DC ...
Steinmeyer Holding GmbH
繰返し精度: 0.3 µm - 0.4 µm
ストローク: 100 mm - 200 mm
速度: 15 mm/s - 25 mm/s
... コントローラー付きXYZシステム カスタマイズ可能: - アプリケーションのセットアップと拡張に最適 - 0.3μmまでの高精度繰り返し精度 - 30mm/sの比較的高速な位置決め速度で、最小のステップと最高の信頼性 - 150Nまでの中荷重を位置決めする±1の完璧な平面度 PMT160 の高精度で耐久性の高い標準直動軸に、独立した Z 軸ユニットを搭載した XY コンビネーションです。この組み合わせは、完璧な平面度、ピッチとヨーの最小公差、スムーズな動作を必要とするすべてのアプリケーションに適しています。 仕様 - ...
Steinmeyer Holding GmbH
繰返し精度: 2 µm
ストローク: 65 mm
速度: 25 mm/s
... XYラボラトリーアナリティクスシステム、センサー用ホルダー、XYステージ、アパーチャー付き カスタマイズ可能 - 高解像度分析、スキャニング、顕微鏡、測定作業のセットアップと拡張に最適 - センサーまたはカメラ用アタッチメント - 2 µmまでの高い繰り返し精度 - μmの安定性により、最高の解像度と詳細なイメージングを実現 - 0.3µmの完璧な平坦度により、5kgまでの中荷重に対応 仕様 - 移動距離: 65 mm (XY) - 水平度: ± 2 - ± ...
Steinmeyer Holding GmbH
繰返し精度: 0.3 µm - 0.7 µm
ストローク: 200 mm
速度: 15 mm/s - 25 mm/s
... 高解像度のXYZ顕微鏡と検査ステーション カスタマイズ可能 - サンプル検査に最適 - 0.3 µmまでの高精度繰り返し精度 - 測定偏差を3 µm以下に低減 この3軸位置決めシステムは、高精度計測アプリケーション向けに設計されており、ステージがZ軸上のセンサーまたはカメラまで測定対象物を移動させます。xyステージはDCモーター設計の信頼性の高いKT310で構成されています。 仕様 - 移動量:200 mm (XY) / 200 mm (Z) - 繰り返し精度:± ...
Steinmeyer Holding GmbH
繰返し精度: 0.001 µm - 4.5 µm
ストローク: 50 mm - 360 mm
速度: 50 mm/s - 200 mm/s
... XZ-Phiシステム カスタマイズ可能: - 高精度計測システムのセットアップに最適 - サブマイクロメータ領域で最大0.1 µm / 0.0001°の測定システム分解能 - 0.3 µmまでの高精度繰り返し精度 - 最大0.001°までの微細な回転運動 - 極めて長い耐用年数による低メンテナンス このX-Z-Phi多軸位置決めシステムは、高精度で耐久性の高い標準軸(PMT160-300-EDLM、MT130-50-DC、DT170-TM)で構成されており、これらを理想的に組み合わせることで、高精度測定のセットアップが可能です。水平移動の場合、PMT160-300-EDLMはサブマイクロメートルの最小ステップサイズと高速位置決めを可能にします。 仕様 - ...
Steinmeyer Holding GmbH
... 異なるリニアモータ軸を使用した XY および XZ システム XY および XZ システムは、標準的なリニアモータ軸を使用して構築さ れ、さまざまなオートメーションアプリケーションで使用されるモーショ ン制御システムです。これらのシステムは、リニアモーター軸の向きによって動きが容易になるため、このような名前が付けられています。シナドリブスの標準モジュールを組み合わせることで、あらゆるご要望にお応えするオーダーメイドシステムを構築することができます: ...
繰返し精度: 1.5, 5.5 µm
ストローク: 76 mm
速度: 50 mm/s
... 最小限の施工スペースで歩留まり最大化 EUV露光機の小型化・自動化のための補完的な偏光フィルターとして開発された高精度位置決め装置です。約120×180×31mmという非常に限られたスペースで、既存のウェーハステッパーの露光品質と歩留まりを最大化します。EUVや乾燥・無酸素の純窒素雰囲気など、過酷な環境下での高解像度プロセスにも対応します。 過酷な環境下での精度を最適化 - EUV自動露光装置における小型化に最適 - 最小のスペース(約120×180×31mm)で、既存のウェーハステッパーシステムの歩留まりと解像度を最大化 - ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
繰返し精度: 0.3, 0.5 mm
ストローク: 100, 820 mm
速度: 150, 750 mm/s
... クリーンルーム用4軸で構成され、複数の対象物を同時に自動測定できる検査装置です。高いダイナミクスと最高の再現性を実現します。高解像度のカメラやセンサーをサンプルに対して相対的に移動させ、形状の検査、測定、特別な品質特性の記録を行います。 自動化された低メンテナンスの24時間365日検査 - ウェハー、プローブカード、プリント基板などの自動検査に最適です。 - 最大720mmまでの移動により、複数の対象物を同時に検査することが可能 - 2つのプロセスを同時に統合する場合に最適 - ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
繰返し精度: 1.5, 2.5 µm
ストローク: 50, 150 mm
速度: 25 mm/s
... UV露光マスクのXYシータアライメント|ドライ窒素雰囲気下でのウェーハ露光用高精度位置決め装置 精密組立品 786001:002.26 UV露光マスクのXYθアライメント|乾燥窒素雰囲気下でのウェハ露光用高精度位置決めシステム - 精密組立品 過酷な条件下での微細構造形成のためのµmアライメント UV露光用マスクの高精度アライメント用に特別に開発された3軸マスクシステムです。X軸2本、Y軸1本の計3本のリニア軸を持ち、垂直方向のストローク(等速運動)と回転(逆速運動)の両方を発生させるパラレルキネマティックデザインを採用しています。これにより、紫外線照射下および超乾燥窒素雰囲気下において、ナノメートル領域での高精度な直線および回転位置決めを実現しました。 ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
繰返し精度: 1.5, 2.5 µm
... ウェーハステッパー用レンズの高精度調整を実現するダブルXY直動軸|クリーンルームでの超微細UV露光 - 精密アセンブリ 2つの光学系を高精度に調整 ウェーハステッパー用に特別に開発された高精度なダブル直動軸です。UV露光の際、より微細な構造を実現するために、2つのレンズを相対的に、また一緒に位置決めする必要があります。このソリューションは、共通のガイドシステム上の2つのスライド軸で構成されています。2つの移動スライドキャリッジはそれぞれ3つのキャリッジを持ち、レンズをできるだけ接近させるために、互いの中で部分的に移動することができます。 極度に乾燥した環境下での超微細画像処理 - ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
繰返し精度: 0.6, 1 µm
ストローク: 10 mm
速度: 25 mm/s
... 縦方向に高精度で速いショートムーブメント この高精度位置決めシステムは、費用対効果の高い接触型3Dプリントプロセスのために特別に設計されています。プリントヘッドはボイスコイルで作動するため、プリントプロセス中、サンプルはキャリアとの距離を最小限に抑えながら、非常にダイナミックかつ高精度に位置決めされます。このため、粘度に関係なく、極めて高速な動きをするキャリア上で、最小のメディアを高精度に、かつダメージを与えることなく位置決めすることが可能です。ほぼアッベ配列のリニア測定システムにより、必要に応じて1μm以上の繰り返し精度を実現します。 ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
... 12インチウェーハ、プリント基板に最適なXYZ Phi検査装置(クリーンルームISO 2) - 検査・顕微鏡 クリーンルーム対応ユニバーサル4軸グラナイトガントリー このXYZ Phi位置決めシステムは、クリーンルームISO 2までの半導体および電子機器製造における様々なテストおよび検査工程に使用することができます。XYで320 x 320 mmまで移動できる設計のため、12インチまでのすべての標準的なウェハサイズに適しています。リニアモータ駆動のKT405-320-EDLMメカニカルステージを使用して、Z軸方向にレーザー、センサ、カメラなどを高精度に操作することができます。センサーやカメラの上下移動は、PMT160-050-DC-R/L精密測定ステージで調整します(オプションでスイベルユニットを追加可能)。 要求の厳しいクリーンルームで高精度な検査を実現 - ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
... あらゆる角度から自動で高解像度のイメージングを実現 この9軸位置決めシステムは、噴射ノズル、ステント、小型切削工具、カニューレ、その他の回転対称の部品など、あらゆる角度からサンプルを顕微鏡や高解像度カメラで観察することを可能にします。KLT310の堅牢で剛性の高い標準部品とXYZ用PMT160で構成され、これにさまざまなタイプの顕微鏡を取り付けることができます。旋回軸には軽量、コンパクトで安定したKT180 XYオフセットステージを使用し、さらに回転軸と取り付けチャックを備えた旋回軸を上部に備えています。 短いプロセスタイムでも超微細な加工が可能 - ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
速度: 30 mm/s
... 多彩な測定作業を可能にする高精度検査装置 この3軸位置決めシステムは、ステージがZ軸上のセンサーまたはカメラに測定対象物を移動させる高精度な計測アプリケーションのために設計されています。xyステージは、DCモーター設計の信頼性の高いKT310で構成されています。内部モーター、クロスローラーガイド、高精度ボールネジを採用したコンセプトにより、優れた精度と設置スペースの最適化を実現します。 高精度で安定した測定結果 - 自動試料検査に最適 - 0.3 µmまでの高精度な繰り返し精度 - ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
速度: 30 mm/s
... 多彩な測定作業を可能にする高精度検査装置 この3軸位置決めシステムは、ステージがZ軸上のセンサーまたはカメラに測定対象物を移動させる高精度な計測アプリケーションのために設計されています。xyステージは、DCモーター設計の信頼性の高いKT310で構成されています。内部モーター、クロスローラーガイド、高精度ボールネジを採用したコンセプトにより、優れた精度と設置スペースの最適化を実現します。 高精度で安定した測定結果 - 自動試料検査に最適 - 0.3 µmまでの高精度な繰り返し精度 - ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
... XZ-Phiシステム|Xリニアモーター、ボールネジ|Z DCモーター、クロスローラー|Phiトルクモーター リニア軸と回転ステージによる高精度な測定システム 高精度で耐久性の高い標準軸(PMT160-300-EDLM、MT130-50-DC、DT170-TM)を組み合わせ、高精度な測定セットアップを可能にするX-Z-Phi多軸位置決めシステムです。水平移動の場合、PMT160-300-EDLMは、サブマイクロメータレンジの最小ステップサイズと高速な位置決めを可能にします。リニアスケールの精度を最大限に引き出すために、リニアスケールは測定する距離と一直線上に配置されています(アッベのコンパレータの原理)。リニアスケールは、テーブルとは別に、回転テーブルの前方、測定する部品の高さに放射状に設置されます。 ...
Steinmeyer Mechatronik GmbH
繰返し精度: 0.5, 0.15, 0.25, 0.1 µm
積載量: 30 kg
ストローク: 27.5, 25, 14 mm
... - アクチュエータ分解能:8 nm - 最小インクリメンタル動作:X、Y、Zで0.25 µm - BLDCモーターとアブソリュートエンコーダ 6自由度のパラレル・キネマティック設計により、シリアル・キネマティック・システムよりも大幅にコンパクトで高剛性、高いダイナミックレンジ、移動ケーブルがない。高い信頼性、摩擦の低減 アブソリュートエンコーダ アブソリュートエンコーダは、位置を即座に決定することができる明確な位置情報を提供します。つまり、スイッチオン時に参照する必要がないため、運転中の効率と安全性が向上します。 ブラシレスDCモーター(BLDC) ブラシレスDCモーターは、特に高速回転に適しています。高精度な制御が可能で、高い精度が得られる。また、摺動接点がないため、滑らかな回転が得られ、摩耗が少なく長寿命です。 応用分野 研究・産業マイクロアセンブリ、バイオテクノロジー、半導体製造、光学アライメントに。 ...
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