無線周波数プラズマ発生器

... 空冷式RFジェネレーターTruPlasma RF 1001 Airは、最大1000Wの高精度で再現性の高いRFエネルギーを100mW単位という極めて微細な分解能で供給するため、多様なプラズマアプリケーションに適しています。半導体、太陽電池、ディスプレイの製造のいずれにおいても、特許取得済みのTRUMPF Hüttingerテクノロジーは、最新のプロセス機能により、最高の信頼性と最高のプロセス結果を保証します。 スマートな自動周波数調整 最適かつ高速な周波数チューニングを保証し、ジェネレーターとマッチボックス間の最適な相互作用を実現します。 高精度アーク管理 要求の厳しい新しいプロセスの安全な操作により、製品を確実に保護します。 マルチレベルパルシング マルチレベルの柔軟なパルス形状制御により、最新のプラズマプロセスにおけるプロセス結果を改善します。 プラグ＆プレイ プロセスの変更やレトロフィットの際に、ジェネレーターの柔軟な使用と交換が可能。 安定したプラズマプロセス 特許取得済みのCombineLineテクノロジーは、50オームの真の出力インピーダンスにより、均一なプロセスパワーを保証します。 均一なジェネレーター技術 RF製品ファミリーの様々なパワークラスにより、あらゆるプロセス要件に対応できます。 ...

... 表面のコーティングや構造化の決め手となるのは、安定した再現性のあるプラズマ電流の供給です。TruPlasma RFシリーズ1000 / 3000 (G2/13)のRFジェネレーターは、最先端のパワーエレクトロニクスにより、このための最良の条件を提供します。安定した出力と高い制御精度は、高い生産性を維持しながら最高の結果を保証します。 高い精度と再現性 CombineLineテクノロジー：真の50Ω出力インピーダンスによる最適なプロセスパワー。 RFケーブルの長さに依存しない ケーブルの長さを調整する必要がなくなりました。 堅牢で安全 CombineLineテクノロジー：ミスマッチ時の反射電力から確実に保護します。 効率的でコスト効率 最大80%の効率により、エネルギーコストを最大50%削減できます。 送風機不要の冷却ソリューション 周囲空気の加熱や汚染がないため、クリーンルームでの運転も可能です。 ...

... TruPlasma VHFシリーズ3000ジェネレーターは、革新的なプラットフォームコンセプトに基づいており、最高レベルの出力密度を実現し、最も厳しいプロセス要件に対応します。モジュール式の純水冷構造により、出力は最大80kWまで拡張可能です。このコンパクトなVHFジェネレーターは、コスト効率も高く、堅牢な設計となっています。 正確で高速な任意のパルス形状 現在のシングルレベルおよびマルチレベルパルシングに最適なプラズマプロセス制御を提供します。 最小ランプ時間 ...

... TruPlasma RFシリーズ3000は、その堅牢な設計と高効率が特長です。これは、半導体、太陽電池、フラットスクリーンの製造に使用されるような、安定した再現性のあるプラズマプロセスに最適であることを意味します。世界中の何千ものアプリケーションに設置されているこれらの発電機は、高レベルの生産性と優れたプロセス結果を保証します。 効率と費用対効果 最大80%の効率により、エネルギーコストを最大50%削減できます。 優れたRFアーク管理 要求の厳しい新しいプロセスでも安全に操作できます。 極めて堅牢で高いプロセス安定性 CombineLineテクノロジー：不一致時の反射電力に対する信頼性の高い保護。 最大限の柔軟性 連続またはパルス出力により、多様なアプリケーションに対応します。 ...

... 新しいTruPlasma Match Series 1000 (G2/13)マッチボックスは、TRUMPF HüttingerのRFジェネレーターを理想的に補完します。そのインテリジェントなマッチングアルゴリズムとプロセス監視用のデジタル制御プラットフォームは、すべてのコンポーネントが最適に連動する包括的なソリューション、すなわちトルンプのRFシステムを提供します。 インテリジェントマッチングアルゴリズム クリティカルなプロセスにおいても、50オームまでのインピーダンスマッチングを高速、安定、かつ再現性よく行うことができます。 システム全体の最適な相互作用 進化したソフトウェアと、ジェネレーターとマッチボックス間の通信の改善。 RFパワーのリアルタイム測定 マッチボックスと負荷のインピーダンスの変化に対する高速システム・トラッキング クローズドループ制御 プロセスパラメーターの最適モニタリングと早期アーク検出 ユーザーフレンドリーなプロセス監視 グラフィカルなユーザーインターフェースと効果的なツール（スミスダイアグラム、リアルタイムオシロスコープ）。 ...

... eVerest™RFジェネレーターは、半導体産業が新たな転換期に向かって加速する中、変革的なプラズマ制御のニーズを満たします。設定可能なマルチレベルパルシングにより、瞬時またはユーザー定義のトランジションタイミングが可能です。さらに、広い周波数掃引範囲を持つ高速、高精度モデルベースの周波数チューニングにより、プロセスの安定性と制御性が向上します。これらの機能に加え、より高速なセットポイント応答、パルス状態開始時の制御されたオーバーシュート、および洗練されたPowerInsight ...

... 汎用性の高いApex®シリーズのRFジェネレーターとパワーデリバリーシステムは、チャンバーマウントに適したコンパクトなモジュール設計を誇ります。洗練されたRF変換技術を利用したApex RFジェネレーターと電力供給システムは、製品とプロセスの信頼性を向上させます。高密度パワー機能により、高度なプラズマプロセスに最適です。また、さまざまな通信モデルと設定可能な機能により、プラットフォームをカスタマイズし、統合アプローチを検討することができます。カスタムジェネレーターのリードタイムは不要です。 - ...

... 新しいプラズマ・アプリケーションのためのマルチレベル・パルシングとパルス波形制御 パルスRF製品で最も広範な機能セットを入手できます。Paramount Plusは、正確なRFレギュレーション、高度なパルス操作、高度なデータ収集を提供します。Paramount Plusは、周波数1～60 MHz、パワーレベル1.5～15 kWという広範なRFエネルギーをカバーするように設計されており、必要な再現性と信頼性を提供します。 パラマウントプラス パルスRF電源 マルチレベルパルシング、パルス波形制御、およびパルスRF電源で利用可能な最も広範な機能セットを備えています。 パルスRF製品で利用可能な最も広範な機能セットを備えたParamount® ...

... 動作の柔軟性に新たに焦点を当て、プロセス開発を進めましょう。Paramount® HF RFジェネレータは、広い出力範囲を提供し、複数の統合シナリオをサポートし、標準シリアル/アナログインターフェースやその他のオプションの通信インターフェースを装備しています。Paramount HFは、高アスペクト比デバイスに必要な高プラズマ密度とイオンエネルギーを可能にし、半導体プロセスツールの次のノードに向けたプロセスを高速化します。Paramountプラットフォームのデジタル・アーキテクチャは、正確なパワー・マネージメントを提供し、新機能の統合を合理化します。プラズマの変化をリアルタイムで検出することで、高出力と再現性の高い性能を実現します。また、内部保護リミットにより、信頼性の高い動作を実現します。 - ...