梱包用貯蔵マシン

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光起電性貯蔵マシン
光起電性貯蔵マシン
RT-R2R

システムを金属で処理するR2R網はプラスチック フィルムの単一の側面のコーティングの絶えずアルミニウム メタライゼーションのため主に、ペットのような、PEの基質である。使用されるかどれが良質の包装材料の製造業のために。 R2R網の真空のmetallizerの特徴 1。 ウェブ被覆 システムは高度の円形の部屋の構造を採用する、真空槽は(上の部屋)巻および蒸発の部屋を含んでいる();巻くこと/システム働きを長い間固定して保証するほどく装置は真空槽の同じ側面にある、 短い真空の避難周期のための2高性能の真空のポンプ施設管理は、生産性を効率的に改善する。 省エネを保障するためにウェブ被覆 ...

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Shanghai Royal Technology Inc.
熱蒸発による貯蔵マシン
熱蒸発による貯蔵マシン
R2R

... ロールツーロール式ウェブアルミ真空蒸着機のメリット R2R(ロール・ツー・ロール)ウェブアルミニウム真空蒸着機は、連続プロセスでフレキシブル基板上にアルミニウムの薄層を蒸着するために使用される機械で、パッケージング、エレクトロニクス、自動車、装飾用途など、さまざまな産業で一般的に採用されています。 R2Rウェブアルミ真空蒸着装置は、通常、基材ロールを供給する巻き出しステーション、汚染物質を除去する洗浄セクション、接着性を高める前処理セクション、蒸発を行うメタライゼーションチャンバー、アルミニウム層を固化させる冷却セクション、巻き取りステーションなどのさまざまなコンポーネントで構成されています。このプロセスには、生産速度が速い、アルミニウム層の厚さと均一性のコントロールに優れている、プラスチックフィルム、紙、箔、織物などさまざまな柔軟な基材を加工できるなど、多くの利点があります。R2Rウェブアルミ真空メタライザーの詳細や特徴は、メーカーや目的によって異なる場合があることを念頭に置くことが重要です。 ...

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光起電性貯蔵マシン
光起電性貯蔵マシン
RTAC1215-SP

陶磁器の放射の基質のたる製造人のマグネトロンの放出させるコーティング植物/陶磁器の破片の直接銅板の放出させる装置 陶磁器の放射の基質のたる製造人のマグネトロンの放出させるコーティング植物 DPCプロセス直接銅板はLED/半導体/エレクトロニクス産業と適用される高度のコーティングの技術です。1つの典型的な適用は陶磁器で基質を放射します。 たる製造人のAl2O3、AlN、Siの伝導性のフィルムの沈殿は、PVDによるガラス基質従来の製造方法と比較される放出させる技術に掃除機をかけます: ...

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光起電性貯蔵マシン
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RTEP1600-HMDSO

この頃はでは、全体的な技術工業の点から見て、すべての製造業者が最もよいコーティングの解決を製品品質および救う生産費のプラスを私達の環境を大事にしなければならないように改善するように開発し、見つけることはかなり重要である。 人間、それの必要な交通機関用具が私達の日常生活の不可欠な一部分であるので、特に車の企業で。そう解決する方法を「エネルギー不足-ガソリン」 「ガソリン非常に熱い二酸化炭素および危険のガスは私達の惑星」の「高い生産費」問題に、汚染を持って来る。これらの問題およびこの悪い状態を改善すること解決したありがとうPVDのコーティングの技術。 PVDの技術は車の製造工程、イメージの下の検討のさまざまな部分で広く利用されて、どんな高貴な技術的な缶が提供するかか学ぶ: 1. ...

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光起電性貯蔵マシン
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Sigma®

... 物理的気相成長法(PVD)は、ウェハ表面に導電性、半導体性、絶縁性の材料をコーティングする薄膜プロセスです。PVDには、スパッタリング、蒸着、イオンビーム蒸着といったさまざまな方式があります。KLAでは、スパッタリング技術に基づく製品を提供しています。スパッタリングプロセスでは、「ターゲット」がソース材料となり、プロセスチャンバー内のプラズマからイオンを浴びせます。ソース材料の原子はプラズマ中に放出またはスパッタリングされ、そこで反応が起こり(プロセスガスの混合に依存)、その後ウェーハ表面に凝縮します。SPTS ...

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PECVD貯蔵マシン
PECVD貯蔵マシン
Delta™

... プラズマエンハンスト化学気相蒸着法(PECVD)は、プラズマ内のエネルギーを利用してウェハー表面での化学反応を加速し、400℃以下の温度で薄膜を生成するプロセスである。成膜中に高エネルギーのイオン照射を行うことで、薄膜の電気的・機械的特性を調整することができます。SPTS Delta™ PECVD装置は、アドバンスト・パッケージング、RF、パワー、フォトニクス、MEMSの各市場において、特に低い処理温度が要求される幅広い用途に使用されています。Delta™ fxPクラスターシステムは、80℃から400℃までの成膜温度で、広範囲の誘電体膜に対応するプロセスの包括的なライブラリを提供します。また、このシステムには、高感度基板のガス抜き用の枚葉式および多葉式プリヒートチャンバーオプションと、ウェーハ裏面蒸着用のエッジコンタクト処理機能もあります。 - ...

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