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真空範囲: 1 mbar - 800 mbar
... これらのデバイスは真空レベルを制御し、ネットワークの流量や真空レベル（一次真空）の変動に関係なく、事前に設定された値（二次真空）で一定に保ちます。 それらは膜ピストンによって動作し、二次真空と大気圧との間の圧力差を利用する。 真空制御バルブとは異なり、減速機は回路に空気を放出しないため、単一の真空源から、異なる程度の真空で取られたより多くのグリップポイントを作成できます。 真空レベルは、ローレット付き親指ねじを時計回りに回して増加させ、反時計回りに下げることによって手動で調整されます。 ...
VUOTOTECNICA
真空範囲: 1 mbar - 980 mbar
... ラフバキュームレベル用レギュレータ このページで説明するレギュレーターは、前ページで説明したものと同じ動作原理に基づいており、同じ機能を備えています。唯一の違いは、調整可能な真空レベルの最小値が大気圧値に近いことです。 真空度は、ローレット付きつまみネジを時計回りに回すと上昇し、反時計回りに回すと下降します。 技術的特徴 - 作動方式：メンブレン式ピストンレギュレーター - 調整可能な作動圧力：980～1 mbar abs. - 容量：20～160 m3/h - ...
VUOTOTECNICA
真空範囲: 1 mbar - 980 mbar
... 空気圧調整式真空レギュレーター 空気圧調整式真空レギュレーターは、真空レベルを調整する方法が従来のものと異なります。実際、調整スクリューを手動で操作する代わりに、空気圧シリンダーの圧縮空気供給を操作する必要があります。 真空レギュレーターは、ポンプの真空レベル（一次真空）に関係なく、あらかじめ設定された真空レベルを調整し、一定に保つ（二次真空）ために使用されます。 真空調整バルブとは異なり、レギュレーターは回路に空気を導入しないため、1つの真空源から異なる真空値でより多くの把持点を得ることができます。 その作動原理は、短いストロークの空気圧シリンダーと、二次真空と大気圧の間の圧力差によって駆動される変動ピストンとの間の対照的な作用に基づいています。 技術的特徴 - ...
VUOTOTECNICA
真空範囲: 100,000 Pa
・真空ラインの圧力制御が可能。 ・一面配管仕様をシリーズ化。 ・質量20％減（従来比） ・ワンタッチ管継手内蔵。 ・クリップ固定式により圧力計・デジタル圧力スイッチの着脱が容易。 ・圧力計・デジタル圧力スイッチの取付方向変更が可能（標準配管仕様のみ） ・圧力計・デジタル圧力スイッチの取付角度（60°刻み）変更が容易。
SMC PNEUMATIC
真空範囲: 1 mbar - 1,000 mbar
... VACUU-SELECTコントローラは、基本的なポンプや強力な真空ネットワークなどの真空源でサポートされているアプリケーションに、プロセス効率の向上を提供します。VACUU-SELECTコントローラは、あなたをサポートします。VACUU-SELECTコントローラは、手動での設定値制御や、あらかじめ設定されたアプリケーションをボタン一つで実行したり、ドラッグ＆ドロップでオリジナルのアプリケーションを作成することができます。このコントローラは、実験室の足場に設置可能なベンチトップ型と、実験室のケースワーク用の内蔵型の2種類があります。一体型コントローラには、真空コントローラ「VACUU-SELECT」、逆止弁、耐薬品性のある電磁分離弁が含まれています。VACUU-SELECTには、セラミック製の真空センサーと通気弁が内蔵されています。コンパクトな本体は、設置や設定が容易です。VACUU-SELECTコントローラは、アプリケーションベースの直感的なインターフェースを備えており、一般的な研究室で使用されるすべてのアプリケーションに対して、あらかじめ定義された真空プロセスを提供します。溶剤の蒸発の場合は、沸騰圧力を検知し、2点制御で圧力レベルを安定させることができます。 性能の特徴 - ...
VACUUBRAND
真空範囲: 0.001 mbar - 1,000 mbar
... 概要 VACU·SELECT微細真空制御パッケージは、10-3 mbarまでの作業のための使いやすい真空制御オプションを提供します。 これらのパッケージには、微細真空ゲージを備えたVACU·SELECTコントローラ、耐薬品性インライン絶縁バルブ（VV-B 15C）、小型フランジ（KF）接続を介した真空システムへの接続に必要なアクセサリが含まれます。 VACUBRANDは、2つの異なる小さなフランジ接続を備えた微細な真空制御パッケージを提供しています。 KF DN ...
VACUUBRAND
真空範囲: 0.1 mbar - 1,000 mbar
... 直感的で使いやすい真空コントローラーをお探しですか？VACUUBRANDでは、ラボスケールの真空プロセスに対応した、タッチスクリーンを備えたアプリケーションベースのコントローラー「VACUU-SELECT」を発表しました。VACUU-SELECTコントローラは、以下のような特徴があります。VACUU-SELECTコントローラは、手動による設定値の制御、蒸留の自動化、ドラッグ＆ドロップによる独自のアプリケーションの作成が可能です。あらかじめ定義されたアプリケーションを使用する場合は、アプリケーションを選択してスタートボタンを押すだけです。コントローラは、真空プロセスの完了まで独立して管理します。溶剤の蒸発では、コントローラーが沸点を検出し、必要に応じて真空プロセスを調整します。真空プロセスを忘れて、他の作業に集中することができます。VACUU-SELECTコントローラーは、使いやすく、効率的なコントローラーとして、研究室に貢献します。 性能の特徴 バリオのダイヤフラムポンプとの組み合わせでは、モーターの回転数を調整することで正確なバリオ制御が可能です。 インラインソレノイドバルブの開閉による古典的な2点真空制御 ...
VACUUBRAND
説明：ベズウィックエンジニアリングのVRDは、単段の真空レギュレータです。真空源の後に一列に配置されたとき、それは-12.7 PSIG（4-HG）まで0 PSIG（IN-HG 29.5）から真空を制御します。 おおよその重量：真鍮、ステンレス（303＆316）で25G、アルミニウムで15グラム。重量は、システム構成に応じて、多少異なります。2インチを選択します。高解像度キャップオプションは、総重量に対して約50〜60グラム追加されます。 移植： 10-32雌ねじ入口および出口ポート。真空源は、入口（深い）ポートに接続しなければなりません。 これは、ノンリリーフレギュレータ。あなたは、ノブを回すことにより、真空設定（大きい真空）を増やすことができます。あなたは大気中への下り回線を発散しない限り、あなたは、初期設定から真空の設定（以下真空）を減少することはできません。
... 電気真空ポンプに接続すると、REVシリーズ真空レギュレーターはシステム内の真空度を正確かつ安定させます。調整ノブにより、非常に細かい調整が可能です。 特徴 .調整精度： 3.4 mbar .スルーフロー：85 Nl/分～-846 mbar .ネジ式ピンによる調整 仕様 材質 ボディアルミニウム 内部システム：真鍮、亜鉛メッキスチール エラストマーニトリル ...
元圧の制御はもちろん、末端部の制御も可能。プッシュロック式ツマミで簡単操作。 プッシュロック式ツマミにより、片手でも楽々操作。 従来品より最大50％の軽量化。 本体を樹脂にし、金属部材質はアルミニウムを使用。 標準品でS3仕様相当。 銅を主成分とする材料を不使用。ゴム材質は耐オゾン性に優れたHNBR。(※)S3仕様相当はゲージ及びセンサは除く。 1次側と2次側の継手が個別に回転し、配管方向が自由。 真空源の元圧制御に最適。末端部の制御も可能。
... 真空ポンプは、真空計の点検や校正を行うために、自律的に真空値を生成するために使用されます。 このポンプは、実験室において、機器のような比較的小さな容積の真空値を発生させたり、小さな容器、タンク、パイプの中で校正やリークテストを行うのに適しています。 これらのポンプが到達するMx真空値は、10-2 mbarまで可能です。 ポンプには、生成された信号の基準機器として使用される、一連のアナログおよびデジタル圧力計が付属しています。 MV6-SYSTEM装置は、0からポンプの最大真空値までの真空値を生成・調整する完全な装置で構成されています。 ...
... 480V型バキュームレギュレーターは全真空まで正確にコントロールします。プッシュ式ロックノブによりスムーズな調整が可能です。標準ブラケットと一体型パネルナットにより、多様な設置オプションが可能です。 特徴 - コンパクトサイズと軽量 - インラインパイプへの取り付けが可能 - ソフトバルブデザイン - タイトなシャットオフを提供し、以下を排除します。 定常運転での漏れをなくします。 - 汎用性 - 完全真空制御 - 簡単な取り付け - 複数の取り付けオプション ...
... コノフローのGH20VT - 316ステンレススチール低圧レギュレータは排気される容器の大気圧以下の圧力を正確に調整するように設計されています。これらのユニットは実験室での作業や高高度条件のシミュレーションのためのテストスタンドに特に適しています。 ...
... パーカーP3RA171は、真空供給量の変化に左右されない均一な真空レギュレーションを実現する高精度真空レギュレーターです。 また、フルデマンドで性能を向上させることができます。このユニットは真の真空レギュレータであり、空気を逃がして真空を制御することはありません。 をシステムに導入してください。このレギュレータは、真空源とプロセス自体の間に取り付ける必要があります。真空レギュレータユニットは、ダイヤフラム アセンブリには 3 つのスプリングを使用しており、ダイアフラムの負荷をよりバランスよくすることができます。別のコントロールチャンバーは、ダイアフラムを ハンチングやブザーをなくすために、メインフローを変更することができます。 追加オプションとして、ノンリリーフダイアフラムとスクリュードライバー調整があります。 市場 - ...
真空範囲: 1.732 bar
... 真空レギュレータは、塩素ガスを供給するために設計された塩素処理システムの一部であり、他のガス用にも若干の変更が加えられており、間接真空の原理で動作します。 一般 真空レギュレータM 50 Cは、より大量の塩素ガスを供給するように設計されており、間接真空の原理で動作する他のガス用にも若干の変更があります。 M 50 C レギュレータの構成は以下の通りです。 入口圧力弁 レギュレータヘッド 圧力計 オプションで、以下の装備が可能です。 ドリップレッグとヒーター Yストレーナー 塩素ガスフィルター 動作原理 ガス圧(Cl2)はレギュレーターのヨークアダプターにのみ溜まります。インレットバルブは、制御されていないガスがシステムに入るのを防ぎます。エジェクターが逆止弁の力に打ち勝つのに十分な真空を発生させると、ガス塩素は真空ラインに沿って流量計とレートバルブを経由してエジェクターに移動し、そこで水と十分に混合されます。 ...
Controlmatik
... 負圧を調整する機能を持ち、流量や一次側ネットワークの真空度の変動に関わらず、負圧を設定値で安定させることができます。 本機は二重ダイアフラム構造で、二次側圧力と大気圧の差圧を利用するよう設計されています。真空度は、調整ノブを回転させることで得られます。ノブを時計方向に回転させると真空度が増し、反時計方向に回転させると減ります。 メインネットワークの真空度に関係なく、他の用途でより低い真空度を必要とするすべての集中型システムで使用されます。 ...
真空範囲: 7.5 mbar - 150 mbar
... VSO-EVは、精密真空制御が必要な実験機器向けに設計された電子真空圧力制御ユニットです。 VSO®-EVは、精密な真空制御のために特別に構成され、最適化された小型の電子真空コントローラです。 VSO®-EVは、可変電気制御信号を閉ループで厳密に調整された空気圧出力に変換します。 ピペットディスペンサー用の液体サンプルを吸引するためによく使用されるVSO®-EVは、内部の真空センサーを使用して、重要なシステムパラメータに対する閉ループ制御を提供します。 VSO®-EVは、最も厳しい分離と検出の要件を満たす、高精度の自動ラボ機器に最適です。 ...
真空範囲: 2 mbar
Y696VR シリーズの真空レギュレータは、タンクと真空源の間など、真空低下を制限する必要がある場合に使用し、タンク内の真空制御を行います。 ダイアフラムでの真空低下（絶対圧の増加）によりシートからディスクを離し、より高い真空源によりシステムを設定値に戻すことができます。 機能 -低圧力設定の精密制御 -耐食性 -設置融通性 -広範な材質の選択肢 -高キャパシティ -機能 6 -機能 7 -機能 8 仕様 最大制御圧力 -完全真空 ...
... 真空レギュレータは、産業用冷凍機における革新的な制御システムであり、pressuriの不況（負）モードでの作業を可能にするものである。 真空レギュレータは、産業用冷凍リークの非常に革新的な制御システムで、加圧回路の不況（負）モードで動作することを可能にするものです。 特にプラスチック金型などの金型冷却流路からの冷媒を使用するすべての用途に適しています。このシステムは、流体を加圧するのではなく、不況時に動作し、戻り管から冷媒流体を吸引し、流体の漏れに対抗するのに役立ちます。 液圧の調整は、簡単な操作パネルで素早く正確に行うことができます。 メリット - ...
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