温度: 30 °C - 200 °C
容量: 31 l
幅: 630 mm
... Asynt 31 L Vacuum Oven は、コンパクトな設置面積で優れた性能を発揮します。 200℃までの温度に対応するこの真空オーブンは、熱に敏感な材料を低温で乾燥させたり、より安定した試料を高温で急速に乾燥させたりすることが可能です。 密閉された内部チャンバーは、オーブンと部屋にそれぞれ適切な排気と換気条件を提供することを条件に、溶剤除去作業にも適しています。 ...
温度: 1,800 °C
... 管状炉は、ガス/真空雰囲気下でのサンプルテスト用に設計されており、カスタマイズされたサイズと水冷式フランジのオプションが用意されています。炉の最高設計温度は1800℃までです。 様々なアプリケーションには、エージング、アニーリング、ブレージング、カルシネーション、触媒研究、CIM、コーティング、CVD、脱ガス、乾燥、硬化、MIM、ミニプラント、熱分解、焼結、はんだ付け、昇華、合成、焼き戻し、テスト燃料電池、熱電対校正などがあります。テンペンス社は、様々なサイズの管状炉、1800℃までの温度範囲の管状炉を幅広く取り揃えています。 標準機能 - ...
温度: 1,200 °C
... Tempsens Split Tube Furnaceは、水平方向に配置されたチャンバーと、2つに分割された炉体を備えています。炉を開くことができるので、作業管の交換が容易で、リアクターのような容器をフランジで挿入することができますが、これはスプリットタイプ以外の炉では不可能です。作業管の交換が容易なため、様々な管径の炉に対応できます。オプション機能により、作業環境を真空や特定のガス環境（不活性ガス）に変更することができます。 テンペンスのスプリットチューブ炉には、単一の加熱ゾーンから、グラデーション加熱を取り入れた複数の加熱ゾーンがあります。テンペンスは、ISOとCEを取得したラボラトリー＆インダストリアルファーネスのメーカーとサプライヤーです。 標準機能 ...
... 応用分野 1.バッテリーラボオーブンは、お客様の製造工程に合わせて特別に設計されています。これらのオーブンは、ガラス、セラミック、プラスチック、金属、繊維、複合材料などの様々な材料の処理だけでなく、自動車工学、航空宇宙、電子製品の製造に適しています。 2.バッテリーラボオーブンは、処理空間内の指向性エアダクトを通して非常に均一な温度分布を達成し、再現性のある生産結果を保証します。 3.電池の実験室のオーブンはリチウム イオン電池、化学薬品、ペンキおよび基礎材料工業の分野の安全な熱処理プロセスのための第一次および二次耐圧防爆措置の安全概念を提供します。 構造的特徴 1.内室材料は1.2mm厚のSUS#304ステンレス鋼で作られています。完全な溶接構造、そのシーリングは非常によく、それは割れた得ることは容易ではないです。 2.外部材料は ...
... 応用分野 1.お客様の製造工程に合わせて特別に設計された乾燥オーブンです。ガラス、セラミックス、プラスチック、金属、繊維、複合材料など様々な材料の加工はもちろん、自動車工学、航空宇宙、電子製品の生産に適しています。 2.精密高温試験室は、処理空間内の指向性エアダクトを通して非常に均一な温度分布を達成し、再現性のある生産結果を保証します。 3.乾燥炉は、リチウムイオン電池、化学、製薬、塗料、基礎素材産業の分野で、安全な熱処理プロセスのための一次および二次防爆対策という安全概念を提供します。 構造上の特徴 1.内室材料は1.2mm厚のSUS#304ステンレス鋼で作られています。完全な溶接構造、そのシーリングは非常によく、それは割れた得ること容易ではないです。 2.外部材料は ...
温度: 450, 550 °C
... STSシリーズは、何十年にもわたって培われてきた低発塵性オーブンの設計と製造の経験から生まれた製品です。 STSシリーズは、低粒子オーブンの設計と製造における数十年の経験から生まれました。この信頼性の高いシステムは、残留溶剤を完全に除去します。 均一な温度分布、圧力制御、乾燥した不活性雰囲気、加熱・冷却速度の正確な 均一な温度分布、圧力制御、乾燥した不活性雰囲気、加熱・冷却速度の正確な管理を提供します。 製品詳細 特徴 1. - 圧力制御に優れた真空処理 2. ...
Shinewell Test Solutions Limited
温度: 10 °C - 200 °C
容量: 24, 51, 91, 125, 216 l
幅: 760, 445, 580, 610, 660 mm
実験用真空オーブンは、タンク内の真空度を一定に保ち、沸点を下げ、不活性ガスの供給も可能です。 熱に弱く、分解しやすく、酸化しやすい物質の乾燥用に特別に設計されています。 乾燥速度が速く、汚染が少ないため、製薬、食品、化学、エレクトロニクスなどの業界で広く使用されています。 制品の詳細 実験用真空オーブンは、タンク内の真空度を一定に保ち、沸点を下げ、不活性ガスの供給も可能です。 真空オーブンは、熱に弱く、酸化しやすい物質の分解と乾燥のために特別に設計されています。 ...
温度: 1,150, 1,200 °C
... 説明 石英マッフルとセラミックの任意のタイプに適した実績のあるメカニズムを持つ最後の世代の炉。 電子機器は、マイクロプロセッサのおかげで、14個のプログラム可能なパラメータ（モデルAF100用）と21個のプログラム可能なパラメータ（モデルAFPRESS）を備えた100個のプログラム機能を保存することができ、管理が簡単で信頼性が高い。 真空の程度から別のスタビリングと加熱と冷却の時間に火とプレス注入プロセスのすべてのパラメータを制御する機会。 それに自己診断の有効なシステムがあります。 RS232 ...
温度: 250 °C
幅: 580, 600, 720, 615 mm
高さ: 450, 470, 535, 1,470, 1,750 mm
... 真空オーブンの情報 真空乾燥炉は、科学研究ユニット、専門大学、工業および鉱業企業の研究所、生産分野、粉体乾燥、ベーキング、消毒、およびあらゆる種類のガラス容器の滅菌とともに、対象物の真空状態での乾燥および加熱試験に使用されます。特に、熱過敏性、酸化、複雑な成分などの迅速で効率的な乾燥に適しています。 真空乾燥オーブンの利点 - 乾燥温度を下げることができる。 - 加熱時の酸化を防ぐことができます。 - 加熱時の空気による生物細胞の死滅を防ぐことができる。 - ...
温度: 250 °C
幅: 1,738 mm
高さ: 2,068 mm
... デュアルオーブン、インライン装置である。 オーブン内の2枚のパレットは上部ロボットによってクランプされ でクランプされ、オーブン工程後にコンベアへ排出されます。 特徴 .電源 AC 220V, 60 Hz .冷却：窒素ガス .重量：1,100kg ...
温度: 800, 1,000 °C
真空アニーリング炉は、高温、高真空、および強い磁場環境での柔らかい磁性材料の加熱およびアニーリングに適しています。 真空アニーリング炉は、高温炉、高温炉加熱電源、Labview制御ソフトウェア、電磁石、高精度バイポーラ定温度電源、分子ポンプユニットで構成されるフィードバック調整加熱システムです。と水冷ユニット。 アニーリングプロセス:強い磁界 (または非磁気) の環境でサンプルを熱して下さい。 特定の温度に加熱された場合 (ユーザーはニーズに応じて設定できます) ...
温度: 300 °C - 1,600 °C
... 高温炉 1600℃までの材料試験 発電所のタービンやボイラー、航空機のエンジンなどに使用される高温材料のさらなる開発は、材料研究の中心的な課題となっています。高温で使用される材料は、使用される力の影響に耐えるために、高温で大きな機械的強度を示し続けなければならない。あらゆる熱力学的プロセスの有効性が温度に比例して増加するため、適用温度を常に上昇させることに強い関心が向けられている。ヘゲワルド＆ペシュケMPT社は、高温下での高性能材料の機械的特性を、引張、圧縮、曲げ試験で評価するための試験アクセサリーを豊富に取り揃えています。 以下のようなものがあります。 高温炉、3ゾーン加熱、温度範囲300°C～1600°C 万能材料試験ソフトウェアLabMasterによる温度制御の電子制御（補助モジュールSteadyRise) 熱電対による試料表面の正確な温度測定 接触または非接触測定プロセスにより、最高1600℃までの膨張および変形を試料上で直接測定可能 真空または不活性ガスでの使用 耐熱素材による試験片クランプ 高温領域での材料試験に関する当社のソリューションは、新しいDIN ...
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