マグネトロン

... オングストローム・サイエンス社の円形マグネトロンは、Angstrom Advantage™と、構成とプロセス性能においてほぼ無限の可能性を提供する他の多くの設計特徴により、スパッタリング業界の標準として認識されるようになりました。 そのコンパクトな設計により、当社の円形マグネトロンは、最小の真空チャンバー用の最も複雑なクラスターアセンブリを含む、あらゆる新規またはレトロフィットアプリケーションに理想的です。 低インピーダンスヘッドは、RF、DC、中周波DC、パルスDC、HiPIMS、マイクロ波パワーに対応します。 ISO ...

... より多くの産業がマグネトロンスパッタリングのスピード、制御性、そして最終的な利益を発見するにつれて、アングストローム・サイエンシズは、これらの大規模で高速な製造プロセスの出力を最大化するツールを開発している。 より広範なソリューション 極めて広範な基板にコーティングする必要がある場合、または極めて高いスループットを達成する必要がある場合、リニアマグネトロンは完璧なソリューションを提供します。 特許取得の利点 オングストローム・サイエンスのリニアマグネトロンは、特許取得の完全カプセル化されたプロファイルNdFeB希土類磁石と乱流水流を組み込み、比類のない性能を提供します。 標準継手 当社では、ISO ...

... ドロップインとサイドマウントの完全なアセンブリは、3″（75mm）または5″（125mm）のバッキングチューブ直径を使用し、最大4メートルの長さで利用可能であり、最小のソース間間隔を持つ複数のインラインアレイは、コンパクトな高スループット生産システムで利用可能である。 ONYX-Revolution™は、どのようなターゲットタイプにも適合するようにカスタマイズされたターンアラウンドで、ユニバーサルでコスト効率の良いマグネットデザインを採用しています。また、低コストで長期的な投資と信頼性を実現するために、既製のコンポーネントで設計されています。 オングストローム・サイエンスの特許取得済みプロファイル・マグネット技術は、ソースと基板間の蒸着プロファイルをより正常なものにします。改善された蒸着プロファイルは、チャンバー壁へのデブリ蓄積を低減します。 さらに、アングストローム・サイエンシズのマグネットアレイは、より高い磁場強度を提供するため、ユーザーはスパッタリングプロセスを低電力で実行し、一般的な蒸着速度を達成することができます。 本来、シリンドリカルマグネトロンは、同じ空間面積を持つプレーナーマグネトロンの最大3倍の量のターゲット材料を保持することができます。Angstrom ...

... 高出力インパルスマグネトロンスパッタリング（High Power Impulse Magnetron Sputtering、HiPIMS）は、パルススパッタリング技術の比較的最近の進歩であり、スパッタされた原子の大部分をイオン化するプラズマ放電を発生させるために、非常に高エネルギーで持続時間の短いパルスを使用する。イオン化されたフラックスは、コーティング特性の制御を高めるために誘導することができる。 オングストローム・サイエンス社は、1500ワット/in2以上の極端な出力密度を維持できる一連のスパッタリングカソードを開発しました。特許取得済みの乱流ターゲット冷却に加え、アングストローム・サイエンシズの高インパルスパワーパルスマグネトロンスパッタリングカソードには、プロセス動作中に最適な冷却を維持するため、アノード本体と取り付けフランジに追加の冷却チャンネルが組み込まれています。 その他の特徴として、ターゲット寿命を通じてターゲット表面の電界強度を一定に保つパッシブおよびアクティブマグネットアレイがあり、これはHIPIMSプロセスにおいてアーク放電の低減とスパッタされた材料の最適なイオン化の両方に重要です。 これらの特徴は、固体アノード構造とともに、HiPIMSやあらゆる高出力長時間稼働アプリケーションのような要求の厳しいアプリケーションにおいて、一貫した再現性のある性能を可能にします。 HiPIMSマグネトロンは直接冷却式で、円形、直線、円筒形の設計があります。 ...

... オングストローム・サイエンス社は、有限要素解析（FEA）磁石モデリングを使用して、お客様のプロセス仕様に合うように磁石をカスタムプロファイルします。 仕様に対応します。高レートとスループット、高い均一性とターゲット利用率、あるいはその2つの完璧なバランスなど、どのようなご要望にもお応えします。 Angstrom Advantage™がお客様のプロセスに最適化されることをお約束します。 カスタムマグネトロン、取り付け金具、フランジ、シャッターアセンブリ、ガスマニホールド、または完全な真空チャンバーが必要であろうとなかろうと、アングストローム・サイエンスは、お客様のプロセスに最適化されたAngstrom ...

... オングストロームサイエンスでは、世界で最も先進的で信頼性の高いマグネトロンスパッタリングカソードを設計、エンジニアリング、製造しています。また、業界最長の2年間保証で、製品の品質を保証しています。 また、マグネトロンの寿命を通じて最高品質の性能を保証することをお約束します。ONYX®や他のマグネトロンアセンブリの緊急時やメンテナンスの必要性に対して、包括的な修理とリビルドサービスを提供しているのはそのためです。 -ソースの分解 -機械的および電気的損傷チェック -適合および公差検査 -Oリング交換 -ネジ交換 -全体クリーニング -マグネット・チェック：封入、クリーニング、マップ作成 -再組み立て -テスト：真空、電気、水（テストシートあり） -水と電気ラインの交換（必要な場合） ...

... ロータリーマグネトロンは、マグネットセットが中心軸を中心に機械的に回転する円形マグネトロンの変形である。この実施形態は、もともと半導体用途に開発されたもので、可能な限り小さなカソード直径で固定基板を均一にコーティングすることができます。この技術の他の用途としては、ターゲット面に再蒸着された材料が成長膜に欠陥を発生させる場合があります。ロータリーマグネトロンでは、ターゲット面全体が20～600RPMの間で回転するマグネットセットによって一掃されます。 オングストローム・サイエンス社は、直径4″(100mm)から16″(406mm)までのロータリーマグネトロンを提供しており、調整可能な磁石構成でプロセスの最適化と均一性の向上を可能にするように設計されています。当社のマグネトロンは、内部または外部構成で取り付けることができます。 回転マグネトロンは、基板を動かすことなく優れた均一性を提供します。 ...

... オングストローム・サイエンス社は、マグネトロンスパッタリング用途にもたらす最先端技術で国際的に知られています。この度、既存のBOCCT / HRC / HLK / CVC / Cylindrical / MRCやその他のOEMのカソードに、当社の特許取得済みプロファイル磁石設計をレトロフィットする方法を開発しました。当社の設計と高度なモデリング能力を用いて、より良いターゲット利用、均一性の向上、微粒子汚染の減少を提供する性能の向上を設計することができます。 アングストローム・サイエンシズは、世界最先端のマグネトロン、高品質の蒸着材料、包括的な技術サポートを提供することで、お客様が最も生産的で費用対効果の高い薄膜アプリケーションを開発するお手伝いをすることに専念しています。 また、お客様にご満足いただけるよう、万全の体制を整えております。マグネトロンを業界最長の2年保証でサポートするのはそのためです。 ...

... 間接冷却マグネトロンは、円形カソードの冷却水とスパッタリングターゲットの間に中間壁を組み込んでいる。この壁は、ターゲットが "スパッタリングスルー "された場合に発生する可能性のある水漏れを防止するために、水と真空の恒久的なシールを形成する。 Angstrom Sciencesの1″-4″（25mm-100mm）間接冷却式円形マグネトロンには、様々な厚さのスパッタリングターゲットに対応するネジ式ターゲットクランプとアノードシールドが組み込まれている。ネジ式設計のターゲット交換は素早く簡単で、補助的な工具や装置を必要としません。 さらに、ネジ式ターゲットクランプと陽極シールドは、コンパクトな円形マグネトロンヘッドを作ります。これにより、オングストローム・サイエンスの円形マグネトロンは、限られた真空チャンバーに適合し、従来のマグネトロンよりも表面積の割に大きな基板をスパッタリングすることができる。 間接冷却マグネトロンは低電力アプリケーションに推奨され、研究開発アプリケーションに理想的な選択肢です。 間接冷却マグネトロンの詳細については、412-469-8466までお電話いただくか、オンラインでお問い合わせください。 ...

... 基板を長時間高熱にさらす必要のあるアプリケーションのために、アングストローム・サイエンスの高温サーキュラー・マグネトロンは、カソードが高熱条件下でも性能パラメータを維持できるように、セラミック絶縁体と真空シールで最適化されています。200度、300度、450度の高温設計が可能です。 高温サーキュラーマグネトロンは、10-9mTorr範囲のベース圧力用に設計されており、熱サイクル中に発生する可能性のある変動に対して、リークや膜質の逸脱がないように特別に設計されています。 ...