基板

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セラミック基板
セラミック基板
Celcor®

... コーニングの豊富なセラミックソリューションポートフォリオで、明日の排ガス規制に今すぐ対応しましょう。高い性能、効率、柔軟性を実現するために最適化されたコーニングの先進的なセラミック基板は、最も要求の厳しいガソリンおよびディーゼルシステムのニーズを満たすように設計されています。 セルラーセラミックソリューションのパイオニアであり、世界の触媒コンバーターの標準を確立したコーニングが提供するクラス最高の技術的専門知識 厳格化する世界標準に対応する豊富な製品群 幅広い後処理エンジニアリング・ソリューションを可能にする構成と特性 耐久性を向上させた革新的な一体型設計 迅速な消灯を促進低材料密度、低熱容量、高保温性 熱衝撃に対する高い耐性 同じ体積でより多くの表面積を必要とする設計や、同じ表面積でより低い圧力損失を必要とする設計に柔軟に対応可能 ...

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CORNING
エレクトロニクス産業用基板
エレクトロニクス産業用基板

... 酸化アルミナは、マイクロエレクトロニクス用途で最も費用対効果が高く、広く使用されている基板材料の一つです。多くのお客様は、焼成したままの表面で満足されますが、セラミック基板研磨には4つの主な利点があります: より微細なラインパターン 微細な研削と研磨プロセスの後、セラミック基板はより微細なパターン線を得ることができます。これは、より高密度な回路設計能力に有益であり、ファインピッチで高密度の相互接続回路に役立ちます。 焼成したままの表面仕上げは、一般に薄膜用途では1mil、厚膜用途では5milの細線に適しています。アズファイヤー表面でこれより細い線を形成すると、パターン定義が悪くなり、導体抵抗が増加して電流の流れが阻害され、回路性能が低下する。また、パターン精細度の低さは、RFやマイクロ波回路の性能異常の原因にもなるため、研磨を行います。 上下面の平行度を改善 基板を研削・研磨することで、上面と下面の平行度を改善することができます。その利点は、基板をメタライズしてパターニングする際に、基板のキャパシタンスとインダクタンスをより厳密に制御できることです。キャパシタンスとインダクタンスは、インピーダンスを決定する主な要因であるため、平行度を高めることで、RFおよびマイクロ波回路の予測可能性と性能を向上させることができる。 ...

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Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd
エレクトロニクス産業用基板
エレクトロニクス産業用基板

... アルミナは、最も一般的に使用されているセラミック材料です。非常に優れた電気絶縁性、絶縁耐力、1500℃までの高温耐性により、アルミナセラミックは電気用途や高温用途に理想的です。 アルミナセラミックスの特徴 優れた機械的強度 優れた熱伝導性と耐火性 優れた耐食性と耐摩耗性 非常に優れた電気絶縁性 アルミナ基板はまた、いくつかのユニークな特徴を持っている: 高い平滑性/平坦性と気孔率の少ない良好な表面 ヒートショックに対する高い耐性 反りや曲がりが少ない 超高温および腐食性化学薬品に安定 非常に安定した破断強度と形状/寸法変化 用途 ネットワーク抵抗器、チップ抵抗器、チップ抵抗アレイ、厚膜ハイブリッドIC、薄膜ハイブリッドIC、一般アイソレータ ...

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Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd
エレクトロニクス産業用基板
エレクトロニクス産業用基板

... 窒化アルミニウム・ウェーハ基板は、その優れた熱的・電気的特性で知られる半導体産業における重要な部品です。窒化アルミニウム(AIN)材料は、シリコンとの互換性により脚光を浴び、様々なウェハー関連アプリケーションに理想的な材料となっています。 窒化アルミニウム・ウェーハ基板の重要性 窒化アルミニウム・ウェーハ基板は、半導体産業において不可欠な役割を果たしています。その人気の主な理由の一つは、シリコンのそれと密接に一致するその熱プロファイルです。この類似性により、AIN基板は熱管理が重要な半導体アプリケーションに最適な選択肢となっています。このような基板のリーディング・プロバイダーであるイノバセラは、2インチから8インチまでの様々な直径の窒化アルミニウム・ウェーハ基板を提供しており、6インチと8インチのサイズが最も一般的に使用されています。 窒化アルミニウム(AIN)の主な特徴 窒化アルミニウム(AIN)は、その印象的な特性により際立っており、高度な半導体アプリケーションに非常に適しています。最も注目すべき特徴には、以下のようなものがある: 高い熱伝導率:AINは170~220W/mKの熱伝導率を誇り、高性能半導体デバイスの放熱に極めて重要です。 高い電気絶縁性:優れた電気絶縁特性により、電気的干渉からの絶縁が必要な電子部品に最適です。 ...

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Xiamen Innovacera Advanced Materials Co., Ltd
パワー電子用基板
パワー電子用基板
SLP

... Substrate-Like PCBの略。SLPは「次世代PCB」と呼ばれています。HDIのL/Sが40/50umであるのに対し、SLPのL/Sは20/35umと低くすることが可能です。SLPは、製造工程で半導体のパッケージングに使われるIC基板に近いものです。 HDIとIC基板の中間のような、非常に細かい回路を作ることができる。 薄型化・小型化により、新世代家電のコンパクト設計に対応。 ハイエンドユーザーの要求に応える高い信頼性。 ...

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Zhen Ding Tech. Group
薄層基板
薄層基板
Q-PANEL

Q-PANEL試験用サブストレートは既に50年以上に亘り、塗料、メッキ、接着/粘着剤、シーラント(密閉剤)、防錆剤、またその他のコーティング材の試験に使われる、一貫してムラのない世界水準の試験用パネルとしてその名を確立してきました。 世界中の数千ヶ所に上る試験所や研究室が、色彩開発、耐候性暴露試験、塩水噴霧・腐食試験、物理特性試験、品質制御を目的として、弊社の鉄・アルミニウム製パネルを毎年数百万単位で使用しています。在庫には随時幅広いサイズやタイプのパネルをご用意しており、即時の発送が可能です。 Q型の穴あきマークは、お客様に品質を保証するQ-Labのトレードマークです。 信頼でき、再現性のあるコーティング(被覆剤)試験を行うには、試験ごとに結果が大きく変動しない、ある程度の一貫性を持ったサブストレートを使用しなければなりません。残念ながら、一般的に売られている薄鋼板では、コーティング接合に影響を与える板表面の性質に大きくバラつきが見られます。 変化性の原因 パネル表面の問題には数々の原因が考えられます: • ...

基板
基板
Radiance Plus

... Radiance Plusは、化学発光ウェスタンブロッティングに使用可能な最も高感度なHRP基質です。アトモールの感度と長時間持続するシグナルにより、Radiance Plusは他の基質では可視化できなかったバンドを検出することができます。高いシグナル対ノイズと広いダイナミックレンジにより、低強度のバンドの定量に最適です。 サイズ: 150 mL ...

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Azure Biosystems
エレクトロニクス産業用基板
エレクトロニクス産業用基板
PSZ

... 部分的に安定化ジルコニア PSZは、薄膜用途に適した部分的に安定化された酸化ジルコニア基材です。 この基板材料は、良好な電気絶縁特性(室温)と高い曲げ強度と高い破壊靭性を兼ね備えています。 PSZの非常にファイネ粒子と均一性のために、非常に細かいPt 構造が可能です。 私たちはあなたの希望に応じて材料をレーザーカットします! CADデータを送信してください。 利点は 非常に細かい均質な粒状構造 良好な電気絶縁特性を室温で 非常に良好な機械的強度 は、レーザーまたはウェーバー見た 良い平面性 アプリケーション センサ基板 センサ保護プレートを切断することができます ...

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KERAFOL Keramische Folien
DCB基板
DCB基板
DCB

... 特徴: 0.25-1mm 厚のセラミックは、両側に0.3mm 銅を結合し、オプションのニッケルメッキ DCB 熱膨張はシリ コンと一致し、優れた機械的強度、良好な接着性と耐腐食性を持つ安定した形状 に優れた熱伝導率 良好な熱サイクリング機能 良好な熱拡散、ホットスポットを残さない、 チップオンボード技術用のPCBまたはIMS 基板基盤のような構造化可能 ...

LTCC基板
LTCC基板
KLC series

... 機能 熱膨張係数がシリコンに近く、寸法精度と平坦性が優れているため、基板はベアチップ実装に適しています。 低誘電損失セラミックスと低損失導体を使用することで、基材は高周波特性に優れています。 多層配線、多空洞構造、手術/埋め込み印刷抵抗により、ミニチュアライゼーションと高集積化が可能です。 円形状、多角形、凹凸形状など、基材や空洞の特殊な形状が用意されています。 裸のチップの下のサーマルビアを使用すると、基板の熱伝導率を向上させることができます。 使用されるセラミックスにより、耐熱性、耐湿性、外気の発生に優れた基板です。 ...

エレクトロニクス産業用基板
エレクトロニクス産業用基板

... 新半導体基板材料「R-1515V」でアセンブリレベルの信頼性を向上 パナソニックは、パッケージの低反り化とアセンブリレベルでの高信頼性の両立を可能にする新しい半導体パッケージ材料「R-1515V」を開発しました。この新材料は、熱膨張率が非常に小さいため、パッケージ工程での基板の反りを低減することができます。また、機械的特性を最適化することで、リフロー実装時に発生するはんだ接合部の残留応力を低減し、信頼性を向上させます。 IoT、V2X、5Gなどの最先端技術に適しています。 パッケージング(IC基板にチップを実装して封止する工程)時の反りを低減し、パッケージレベルの信頼性を向上させた新基材。新基板材料の熱膨張係数(CTE)は、シリコンICチップの熱膨張係数に近いため、パッケージ工程での熱膨張による反りを低減することができます。 また、半導体パッケージをマザーボードに組み立てるリフロー組立工程では、はんだボールに加わる応力を低減し、組立レベルの信頼性を向上させます。また、厚さの許容範囲が広く、基板とICチップの接合が安定している。また、柔軟性と緩衝性を改良したことで、はんだボールへのストレスを軽減し、組み立て時の信頼性を向上させました。 シリコンICチップに近い低熱膨張率(CTE)で反りを低減 ...

エレクトロニクス産業用基板
エレクトロニクス産業用基板
J12853

分子の微弱なラマン散乱光を増強する基板 SERS (Surface-Enhanced Raman Spectroscopy: 表面増強ラマン分光)基板は、分子のラマン散乱光を増強する基板で、高感度なラマンスペクトル分析を可能にします。微小金属構造のチップを独自のハンドリングプレートで固定して、アクティブエリアを保護しています。ハンドリングプレートのアクティブエリア部にはウェル構造を採用し、溶液などを入れやすくなっています。なお本製品は使い捨て品で、再利用はできません。 ■特長 ・均質な活性表面構造 ・アクティブエリアを保護するハンドリングプレート ・溶液などを入れやすいウェル構造 注) SERS基板J12853は、SERSディテクションモジュールC13560には使用できません。 C13560には、専用SERS基板J13856(小型タイプ、特性はJ12853と同じ)をご使用ください。 詳細は弊社までお問い合わせください。 SERSは、微弱なラマン散乱光の強度を増強する手法です。分子に光を照射したときに発生する散乱光は、大部分は入射光と同じ波長の散乱光 ...

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HAMAMATSU
フッ化カルシウム製(CaF2)基板
フッ化カルシウム製(CaF2)基板

... 厳選されたフッ化カルシウム基板。ラマンスペクトルの作業では、基板が結果を妨げないことが必要です。Crystran ラマングレードフッ化カルシウムは、多くの利点を提供します。 深紫外から中赤外までの広い透過率。 130nmから10µmまでのレーザーを使用することが可能です。 CaF2特有の321cm-1の単一ラマンピークのみ。 結果を混乱させる他のラマンピークがない。 最小限の蛍光性 耐久性があり、不溶性 ...

基板
基板
Multiline TRL Cal

... T-Wave™ プローブ用に最適化された、ミリ波およびサブミリ波校正用基板です。マルチライン TRL 校正基板は、リフレクト(ショート)、スルー、2 ラインなどの CPW 標準を提供し、WinCal XE™ 校正ソフトウェアとの使用を推奨しています。追加測定用に、オフセット・ショートおよびオフセット・オープン構造も含まれています。 - 基板の材質高抵抗シリコン - 基板厚み:275 µm - 誘電率:11.8 - 公称Z0:50 Ω ...

パワー電子用基板
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SERS

... SERS活性基板には,誘電体層と金属層をさまざまに組み合わせたウェハー(SERS基板),コロイド状のナノ粒子,二量体化したナノ粒子,コア/シェル型のナノ粒子など,さまざまな形態があります。SERSレポーターで標識された銀ナノ球は、識別可能な抗原と一致するように選択された抗体と共有結合しており、SERS免疫測定に広く応用されている。免疫複合体が形成され、結合していない成分が洗い流されると、SERS分析装置によって検出されます。 細胞、組織、DNAの研究 EnSpectr ...

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