レーザー用アンプ

出力: 8, 7, 6, 5 W
周波: 1 kHz - 10 kHz

高エネルギー・産業用ワンボックス超短パルスアンプ • 10℃を超える環境温度変化幅においても、比類無き動作安定性を実現 • 特許のAce再生増幅共振器デザイン • パルス幅: 8 W、10kHzで>7 W、パルス幅構成は<35fsから<120fsの範囲で提供しています。すべてのSolstice Aceの構成において、ビーム品質は非常に優れており（M2 <1.25)、OPAを励起するなど幅広い非線形分光アプリケーションに最適です。

... RFA： ラマンファイバーアンプは、シングルモードファイバー中の刺激ラマン散乱効果を利用して、光信号を増幅する光増幅器である。通常、対ラマン増幅と共伝搬増幅があります。光通信システムの効率的で安全かつ便利な高OSNR伝送ソリューションを提供するために、信号の光パワーを高め、信号品質を向上させ、スパン長および全体の伝送距離を延長することができます。ハイブリッドOA：ハイブリッドアンプは、ラマンアンプの低ノイズとEDFAの高出力の利点を統合しています。また、ラマンアンプとEDFAの共同利得制御により、異なる利得の下でスペクトルの平坦性を最適化し、異なるスパンの下で最適なOSNR要件に適応し、高ビットレート光伝送システムへの適用を効果的にサポートすることができます。 主な特長 RFA 世界初の特許技術であるIPBCDは、高い変換効率と低損失を特長としています。 高精度の自動利得制御技術（特許取得済み）、-3dB～3dBのスロープ調整可能、制御精度0.3dB以内。 光リンクの自己診断の独特な特許を取られた技術、全プロセスの自動セクション保護及びレーザーの安全を保障します。 様々なファイバータイプに完全適応 低い雑音指数 柔軟なカスタマイズ Telcordia ...

周波: 1.5 kHz

当社の次世代のワンボックス型チタンサファイア再生増幅器は、市場をリードする性能とHALT/HASS認定の産業レベルの信頼性を兼ね備え、ラボの生産性を最大限に高めます。 Astrellaは、より良いデータを提供し、全体的なデータコストを削減します。高パルスエネルギー（最大>9 mJ）、短パルス幅（＜35fsまたは＜100fs）、優れたビーム品質（M²＜1.25）を提供するAstrellaは、2D分光、THz研究、fsマイクロマシニングなどを可能にします。 1kHzまたは5kHzで提供され、各ユニットには、VitaraオシレータとRevolution励起レーザが内蔵されています。いずれのモデルも、サイズは1247 ...

出力: 0 W - 8 W

... MPBCのラマンファイバ・アンプ・システムは、最小スペクトラム拡幅で、狭い直線偏光のNIR 入力信号を増幅することができます。 標準の空冷エンクロージャでは、1030nm ～ 1370nmの波長で最大 15WのNIR 出力電力を実現できます。また、当社の水冷式エンクロージャでは、必要に応じてより高い電力を利用できます。 さらに、MPBCは、第 2 高調波発生器を使用して、NIR 信号を可視領域に変換するオプションを提供しています。 様々な波長に対して最大 2Wの可視電力を実現します。 ...

... アキュメジャーシステム9000は、これまで実現できなかった多くの測定アプリケーションに完璧なソリューションを提供する、高分解能のキャパシタンスベース測定器です。AS-9000は、ナノメートルレベルの分解能を実現し、常に超高精度な測定を可能にします。軽量。コンパクト迅速かつ容易なセットアップ。 特長 オフセット/ゲインコントロール グローバル対応電源内蔵 厚み出力用サミングアンプ内蔵 0〜10VのDC出力端子3系統を装備 2チャンネル＋厚み バーグラフ表示、オプションでデジタル表示可能 アキュメジャーアナログキャパシタンスシステムについて アキュメジャーシステム9000は、高解像度の静電容量式測定器で、これまで実現できなかった多くの測定アプリケーションに完璧なソリューションを提供します。高速応答と極めて低いノイズレベルにより、以下のような重要なターゲットの測定に最適です。 - ...

光増幅器は、入力信号光を受け取り、より高い光パワーの出力信号を生成するデバイスです。通常、入力と出力はレーザー ビーム (非常にまれに他のタイプの光ビーム) で、自由空間またはファイバー内をガウス ビームとして伝播します。増幅はいわゆる利得媒体内で発生します。利得媒体は外部ソースから「ポンピング」（つまり、エネルギーの供給）される必要があります。ほとんどの光増幅器は、光学的または電気的に励起されます。 アンプの種類が異なれば、飽和特性などの点で大きく異なります。たとえば、希土類がドープされたレーザー利得媒体はかなりの量のエネルギーを蓄えることができますが、光パラメトリック増幅器はポンプビームが存在する間のみ増幅を提供します。別の例として、半導体光増幅器はファイバ増幅器よりもはるかに少ないエネルギーを蓄積し、これは光ファイバ通信に重要な意味を持ちます。 特徴 * ...

電圧: 100 V - 230 V
出力: 0 W - 3 W
周波: 1 kHz - 50 kHz

... 高精度レンジングおよびイメージング、LIDAR、マイクロ材料処理、化学および生化学におけるUV 分光などの多くのアプリケーションは、エネルギッシュな（300 〜 500uJ）ハイビーム品質サブナノ秒（〜 200ps）レーザーパルスの恩恵を受けます。 これらのアプリケーションのニーズに対応するために、STANDAの新しいMOPAマイクロレーザーは、同社の有名なSTA-01マイクロレーザー発振器と最近開発された高効率な増幅段を組み合わせたマスター発振器パワーアンププラットフォームを利用しています。 ...

デジタル時代の実現を可能にするEUVリソグラフィ EUVリソグラフィは将来のマイクロチップの製造方法として、先頭を切っています。半導体業界は何年にもわたって、小型化が今後も進むシリコンウェーハ上構造の露光を可能にする、費用効率が高く量産に適した方法を探し求めてきました。ASML、ZeissとTRUMPFは共同で、産業使用に適した波長13.5 nmの極端紫外線 (EUV) を得る技術を開発しました。この技術では真空チャンバー内で、液滴ジェネレータが錫の微小液滴を毎秒50,000個射出します。これらの液滴それぞれに50,000個のレーザーパルスの一つが当たることで、液滴がプラズマに変化します。それにより発生したEUV光を、露光の対象となるウェーハにミラーを使用して向けます。プラズマ放射用のレーザーパルスは、TRUMPFが開発したパルス対応型CO2レーザー装置であるTRUMPFレーザー増幅器から発せられます。 数ワットから40キロワットへ TRUMPFレーザー増幅器は、レーザーパルスを順次10,000倍以上に増幅します。 高い効率とプロセス安全性 プレパルスとメインパルスを放出することで、レーザー増幅器のフル出力を錫液滴に伝えることができます。 CO2レーザーの新しい用途 高出力レーザーシステムの基礎は、連続波モードで稼働するCO2レーザーです。TRUMPFはこれにより、同技術の新しい用途を生み出したことになります。 スペシャリストの大きなネットワーク TRUMPF、ASMLとZEISSは長年にわたる密接な協力体制のもとで、EUV技術を産業界に適したレベルに引き上げました。

出力: 6 W
周波: 2 MHz

... 波長が可変なレーザー光は、光パラメトリック増幅器を介して利用できます。AVUSの光パラメトリック増幅器（OPA）は、広く調整可能な高エネルギーパルスを提供します。1μmフェムト秒レーザーの使用に最適で、最大50Wのポンプ出力への扉を開きます。この使いやすくメンテナンスフリーなユニットは空冷式で、モノリシックケース設計により最大出力時でも長期的な熱安定性を実現しています。 概要 - 1 μmポンプレーザー用OPA - < 200 fsおよび< 70 fsバージョンあり - ...