ウェハー用マスク アライナ

... OAI Model 200IRマスクアライナーは、クリーンルームを必要としない卓上型システムです。研究開発または限定されたスケールのパイロット生産において、費用対効果の高い選択肢となります。革新的なエアベアリング/バキュームチャックレベリングシステムを採用し、基板を迅速かつ穏やかに水平にし、フォトマスクの平行アライメントとコンタクト露光時のウェーハ全体の均一なコンタクトを実現します。200IRマスクアライナーは、1ミクロンの解像度とアライメント精度を有しています。アライメントモジュールには、マスクインサートセットとクイックチェンジチャックを搭載しており、工具を使用せずに様々な基板やマスクの交換が可能です。アライメントモジュールには、X軸、Y軸、Z軸のマイクロメータを搭載しています。 信頼性の高いOAI光源を搭載し、200～2000WのランプでNear ...

... EVG® 610は、小型で多目的な研究開発システムで、最大200mmまでの小型基板とウェーハを処理できます。 EVG610は、バックサイドアライメントのオプションを備えた、真空/ハード/ソフト/近接露出モードなど、さまざまな標準リソグラフィプロセスをサポートします。 さらに、ボンドアライメントやナノインプリントリソグラフィー（NIL）などの追加機能も提供します。 EVG610は、数分未満の変換時間で、変化するユーザー要件のための迅速な処理と再ツールを提供します。 ...

... EVG® 620 NTは、ウェハサイズ150 mmまでの最小フットプリント領域で最先端のマスクアライメント技術を提供します。 汎用性と信頼性で知られるEVG620 NTは、最小限のフットプリント領域で最先端のマスクアライメント技術を提供し、高度なアライメント機能と最適化された総所有コストを組み合わせます。 半自動または自動構成で利用可能な光学両面リソグラフィに最適なツールです。オプションのフルハウジングGen 2ソリューションにより、大量生産要件と工場標準を満たすことができます。 ...