À medida que a indústria de semicondutores acelera em direção a uma nova inflexão, o gerador de RF eVerest™ preenche a necessidade de controlo de plasma transformacional. A sua pulsação configurável de vários níveis permite uma temporização de transição instantânea ou definida pelo utilizador. Além disso, a sintonização de frequência baseada em modelos de alta velocidade e elevada precisão com uma vasta gama de varrimento de frequência proporciona uma maior estabilidade e controlo do processo. Estas capacidades, para além de uma resposta mais rápida ao ponto de ajuste, um overshoot controlado no início dos estados de pulsação e a sofisticada inteligência IoT PowerInsight by Advanced Energy™, permitem a inovação do processo para o próximo nó tecnológico.
- Sistema completo de fornecimento de RF, várias opções para soluções de correspondência e sincronização inteligente
- Velocidade e controlo em perfis de impulsos multinível programáveis
- Resposta de saída de RF de alta velocidade e tempos de subida/queda do estado de pulso
- Faixa de sintonia de frequência de até ±10%
- Estabilidade dP/dZ projectada
- Ecossistema PowerInsight by Advanced Energy™ IoT
- Permite o desenvolvimento de novos processos para perfis de deposição e gravação < 2 nm
- Fornece ignição confiável com estabilidade de RF independente do comprimento do cabo
- Integra-se perfeitamente em qualquer sistema de plasma
- Aumenta o espaço do processo e alarga a janela de estabilidade
- Apoiado por suporte mundial a produtos e aplicações de centros de serviços locais
---