Magnetron pulsado HiPIMS

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Características

Especificações
pulsado

Descrição

A pulverização magnetrónica de impulso de alta potência ou HiPIMS é um avanço relativamente recente na tecnologia de pulverização pulsada que utiliza impulsos de muito alta energia e de curta duração para gerar uma descarga de plasma que ioniza uma grande percentagem dos átomos pulverizados. O fluxo ionizado pode então ser guiado para um maior controlo das propriedades do revestimento. A Angstrom Sciences desenvolveu uma série de cátodos de pulverização catódica capazes de sustentar estas densidades de energia extremas superiores a 1500 Watts/in2 para aplicações de produção contínua de longa duração. Juntamente com o nosso arrefecimento turbulento patenteado do alvo, os cátodos de pulverização catódica por magnetrão pulsado de alta potência da Angstrom Sciences incorporam canais de arrefecimento adicionais no corpo do ânodo e nas flanges de montagem para manter um arrefecimento ótimo durante o funcionamento do processo. Outras caraterísticas incluem conjuntos de ímanes passivos e activos que mantêm a intensidade do campo na superfície do alvo consistente durante toda a vida útil do alvo, o que é fundamental no processo HIPIMS, tanto para a redução de arcos como para a ionização óptima do material pulverizado. Estas caraterísticas, juntamente com a construção de ânodo sólido, permitem um desempenho consistente e repetível em aplicações exigentes como HiPIMS ou quaisquer aplicações de alta potência e longa duração. Os magnetrões HiPIMS são arrefecidos diretamente e estão disponíveis em modelos circulares, lineares e cilíndricos.

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