Controlador de processo compacto Plasus

Os controladores de fluxo de processo são controladores de gás de processo de circuito fechado de alta velocidade, concebidos para o controlo de precisão in situ e em tempo real de processos de tratamento de plasma e revestimento por vácuo baseados em pulverização reactiva. São soluções completas, compactas, flexíveis, fáceis de utilizar e económicas que podem ser facilmente integradas em sistemas novos e existentes. Igualmente adequados para ferramentas de produção ou de I&D, os controladores de fluxo de processo podem proporcionar melhorias demonstráveis na estabilidade, repetibilidade e rendimento do processo. Está disponível uma vasta gama de acessórios, incluindo sensores especificamente concebidos para aplicações de pulverização catódica HIPMS. O controlo do processo é essencial em aplicações industriais de plasma para garantir a fiabilidade e a elevada qualidade do processo. Neste caso, a espetroscopia de emissão ótica (OES) é uma técnica de primeira escolha, uma vez que não afecta o plasma e que é possível a monitorização em tempo real de várias espécies de plasma. Os nossos sistemas PLASUS EMICON possuem todas as caraterísticas necessárias para analisar, otimizar e controlar a sua aplicação de plasma. A PLASUS é um fabricante líder de sistemas de monitorização espectroscópica de plasma. Fundada há 20 anos, a nossa principal competência é o desenvolvimento de sistemas de controlo de processos chave-na-mão para a indústria e aplicações de I&D. Os nossos sistemas são aplicados na monitorização de plasma, controlo de processos, otimização de processos, controlo de qualidade e análise espectroscópica de plasma. Beneficie dos nossos muitos anos de experiência e do nosso know-how líder na indústria - estaremos ao seu dispor e aconselhá-lo-emos de forma abrangente para a sua aplicação!