Alvo de pulverização catódica em titânio

As placas de suporte utilizadas no processo de pulverização catódica são essenciais para criar uma deposição de película fina de qualidade para o seu produto. Oferecemos placas de suporte em configurações padrão e dimensões personalizadas para atender às suas necessidades específicas. Também oferecemos serviços completos de ligação para fornecer uma solução completa. A Angstrom Sciences fornece placas de suporte personalizadas para se adaptarem ao cátodo de qualquer fabricante. As nossas capacidades de maquinação internas permitem-nos fabricar uma gama completa de placas de suporte de acordo com as especificações do equipamento original ou com as dimensões personalizadas do cátodo, com o mais elevado nível de controlo de qualidade. Na Angstrom Sciences, nenhuma encomenda é demasiado pequena ou demasiado grande. Não existem requisitos mínimos de tamanho de lote para composições personalizadas e a nossa extraordinária atenção ao serviço ao cliente é invejada pela indústria. Fornecemos regularmente placas de suporte (cobre, molibdénio, cobre-crómio) para alvos de pulverização plana, circular e cilíndrica, pastas e almofadas condutoras para arrefecimento de alvos de pulverização, e oferecemos também serviços de ligação como parte da nossa gama abrangente de serviços para a comunidade PVD.