Produção avançada de ozono com módulos de descarga de plasma de quartzo JENA de parede dupla utilizando alta frequência gerada por dispositivos inovadores IGBT. A saída de gás de ozônio é completamente livre de partículas metálicas e, portanto, adequado para tecnologias limpas como semicondutores e processos médicos. A eficiência das tecnologias AOP é surpreendente, especialmente para a oxidação de águas residuais em combinação com reactores de tubos AOPR. Isto é devido a uma taxa de transferência de massa 10 vezes maior em comparação com os geradores de ozônio clássicos. O TCO é zero, já que não há vedações e os módulos de descarga não podem ser afetados por nenhuma corrosão. Como consequência, o dispositivo está livre de manutenção e pronto para um longo ciclo de vida operacional. A incrustação dos eléctrodos e a diminuição da capacidade de ozono é impossível. Gases dopantes, como N2, Ar ou outros, não são necessários. Qualquer tipo e qualidade de gás transportador pode ser utilizado - ar seco, ar humidificado, ar ambiente, oxigénio dos sistemas SEP/PSA ou oxigénio puro (qualquer classe) da garrafa.
+ Processamento de Semicondutores
+ Oxidação e esterilização da água
+ Tratamento de água ultra-pura UPW
+ Sanitização de superfícies
+ Produção de alimentos
+ Matadouros
+ Produção farmacêutica
+ Pesquisa e desenvolvimento
+ Instalações piloto
Capacidade de ozono: 1 ... 10 g O3/h
Entalpia do ozono: 7 g O3/h @ 100 Nl/h (SEPgas)
Concentração de ozono: 0 ... 160 g O3/Nm3
Fluxo de gás: 0.1 - 500 Nl/h com válvula de agulha (opção)
Faixa de controle de freqüência: 0.1 - 100% de capacidade
Controle remoto: interface embutida, interruptor de corte de segurança
Gás portador: qualquer gás contendo oxigênio, livre de óleo
Refrigerador: refrigeração do ar ambiente
Dimensões H500/W500/D300 mm
Conector de entrada/saída: ¼" - Tubo 6/4 PFA
Peso: 35 kg
Fonte de alimentação: 230 VAC-50/60Hz
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