A série GP200 é o primeiro controlador de fluxo de massa baseado em pressão totalmente insensível à pressão (P-MFC) projetado especificamente para processos avançados de Etch e Deposição na fabricação de semicondutores.
O GP200 Series P-MFC apresenta uma arquitetura patenteada que supera as limitações dos P-MFCs convencionais para fornecer o fornecimento mais preciso de gases de processo, mesmo quando se fornece gases de processo com baixa pressão de vapor. Ele inclui vários aspectos exclusivos de projeto, incluindo um sensor de pressão diferencial integrado acoplado a uma arquitetura de válvula a jusante, permitindo o fornecimento mais preciso de gás de processo na mais ampla gama de condições de operação da indústria.
Como a série GP200 suporta uma gama tão ampla de condições de processo, ela pode ser usada como um substituto e atualização para muitos P-MFCs tradicionais e MFCs térmicos. Ele reduz a complexidade e o custo de propriedade do sistema de fornecimento de gás, pois elimina a necessidade de componentes como reguladores de pressão e transdutores.
Obtenha mais detalhes sobre o design da GP200 Series e veja como ela funciona.
Características
Medição de pressão diferencial real
Operação com pressão de entrada mais baixa
Arquitetura de válvulas a jusante
Resposta transitória correspondente
Válvula de controle de vazamento zero
A tecnologia MultiFloTM oferece uma flexibilidade inigualável - um dispositivo pode ser programado para milhares de configurações diferentes de gás e faixa de fluxo sem remover o MFC da linha de gás ou comprometer a precisão
Visor local indica fluxo, temperatura, pressão e endereço da rede
DeviceNetTM, EtherCAT®, RS-485 Interface L-Protocolo e interfaces analógicas
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