Estufa de câmara HTK series

para tratamento térmicode sinterizaçãoa gás

O forno de grafite HTK GR opera com vácuo áspero / fino, gases protetores como nitrogênio / argônio e gases reativos como hidrogênio e monóxido de carbono. O forno de grafite HTK GR não pode operar em uma atmosfera de oxigênio devido ao isolamento de grafite. O design retangular com uma porta frontal permite fácil carregamento e descarregamento. A linha HTK GR está disponível em até seis tamanhos diferentes. Os menores designs com capacidade de 8 litros e 25 litros são normalmente empregados por laboratórios de pesquisa e desenvolvimento. Os fornos de 80 litros, 220 litros, 400 litros ou 600 litros são usados ​​predominantemente como sistemas de fabricação piloto ou produção em larga escala. O HTK GR é baseado em material de isolamento de grafite, bem como elementos de aquecimento de grafite. Com temperaturas máximas de até 2200 ° C, o HTK GR é adequado para necessidades extremas de tratamento térmico. Mediante solicitação, o sistema pode ser equipado com uma retorta de grafite que é capaz de um fluxo de orientação de gás definido dentro da unidade e melhora a uniformidade de temperatura para <± 10 ° C. Para processos com forte liberação de gás, a retorta protege os elementos de aquecimento e aumenta a vida útil do forno. EXEMPLOS DE APLICAÇÃO cerâmica técnica, grafitação, pirólise, siliconização, sinterização CARACTERÍSTICAS PADRÃO Forno de grafite, oferecendo as temperaturas mais altas possíveis Operação de pressão parcial de hidrogênio, se solicitado Velocidades de bombeamento de vácuo precisamente controladas apropriadas para pós Registro de dados para gerenciamento de qualidade