Microscópio eletrônico de varredura por emissão de campo HEM6000
de laboratóriopara análise de materiaispara semicondutor

microscópio eletrônico de varredura por emissão de campo
microscópio eletrônico de varredura por emissão de campo
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Características

Tipo
eletrônico de varredura por emissão de campo
Aplicações técnicas
de laboratório, para análise de materiais, para semicondutor, para geologia
Ergonomia
vertical
Técnica
de campo claro
Configuração
de piso
Fonte de elétrons
de emissão de campo Schottky
Lente
de imersão
Tipo de detector
in-lens SE, de elétrons retroespalhados
Opções e acessórios
assistido por computador
Outras características
de alta resolução, com grande campo de visão e distância de trabalho, automático, de alta velocidade, para semicondutor, de ultra-alta resolução
Ampliação

MÁX: 1.000.000 unit

MÍN: 66 unit

Resolução espacial

MÁX: 1,5 nm

MÍN: 0,9 nm

1,3 nm

Comprimento

1.716 mm
(67,6 in)

Largura

1.235 mm
(48,6 in)

Descrição

Microscópio eletrónico de varrimento de alta velocidade para a obtenção de imagens à escala transversal de amostras de grande volume O CIQTEK HEM6000 dispõe de tecnologias como o canhão de electrões de corrente de feixe largo de alto brilho, sistema de deflexão de feixe de electrões de alta velocidade, desaceleração da plataforma de amostras de alta tensão, eixo ótico dinâmico e lente objetiva combinada electromagnética e eletrostática de imersão para obter uma aquisição de imagens de alta velocidade, assegurando simultaneamente uma resolução à escala nanométrica. O processo de funcionamento automatizado foi concebido para aplicações como um fluxo de trabalho de imagiologia de alta resolução em grandes áreas mais eficiente e mais inteligente. A velocidade de aquisição de imagens pode ser mais de 5 vezes superior à de um microscópio eletrónico de varrimento por emissão de campo convencional (fesem). 1. Velocidade de aquisição de imagem: 10 ns/pixel, 2*100 M pixel/s 2. Resolução: 1,3 nm@3 kV, SE; 1,5 nm@1 kV, SE; 0,9 nm@ 30 kV, STEM 3. Tensão de aceleração: 0,1 kV~6 kV (Modo de desaceleração); 6 kV~30 kV (Modo de não desaceleração) 4. Campo de visão: Máximo 1 * 1 mm2; distorção mínima de alta resolução 64 * 64 um2 5. Repetibilidade do estágio: X ± 0,6 um; Y ± 0,3 um 6. Sistema de filtragem de elétrons de sinal: comutação sem sinal SE / BSE, mistura com proporção ajustável 7. Sistema de deflexão de feixe de alta velocidade totalmente eletrostático : Imagem de campo grande de alta resolução alcançável Máximo. Campo de visão de até 32um * 32 um a 4 nm por pixel 8. Tecnologia de desaceleração de estágio de amostra: Reduzir a tensão de aterragem de electrões incidentes, aumentando a eficiência de captura de electrões de sinal 9.Sistema de deflexão de feixe de lente objetiva de imersão eletromagnética e eletrostática combinada: O campo magnético da lente objetiva imerge a amostra, contribui com imagens de alta resolução de baixa aberração

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* Os preços não incluem impostos, transporte, taxas alfandegárias, nem custos adicionais associados às opções de instalação e de ativação do serviço. Os preços são meramente indicativos e podem variar em função dos países, do custo das matérias-primas e das taxas de câmbio.