Máquina de deposição ALD C30H ALD

de parileno

Ideal para testes de laboratório e produção industrial de pequenas peças Perfeitamente adequado para componentes em 3D de forma complexa Deposição de ALD de Al2O3 e TiO2 Fonte de plasma remota Painel de gás com 4 linhas de precursores aquecidas como padrão, mais a pedido. Dimensões gerais (L x W x H) - 2250 x 1160 x 1450mm Peso - 350 kg Tamanho da câmara - ∅ 295 x 370 mm Tamanho da ferramenta - ∅ 260 x 320 mm Carga máxima de ferramentas - 100kg Capacidade de carga mais fraca - 150g Capacidade de bombeamento - 40 m3/h Alimentação eléctrica necessária - 3 x 400V + N + PE - 50 Hz 3 x 25A - 15kW Câmara termizada - Gama de temperaturas: 20 - 80°C Alimentação eléctrica: 3 x 400V + PE - 50Hz 3x 14A - 9kW Plasma remoto Fonte - Frequência: 1.7 - 3MHz Potência: 3000W Em Situ RF capacitivo Fonte de Plasma - - Norma processável materiais - Parileno: C, D, N, F-VT4, F-AF4 ALD: Al 2 O 3 , TiO Processo temperatura - Parylene: temperatura ambiente ALD: 60 - 80°C