O Sistema Infinity FA é uma solução rentável para dispositivos de gravura e perfilagem com elevado rendimento, proporcionando resultados rápidos a um baixo custo de propriedade. Proporciona uma excelente uniformidade de retardamento e danos mínimos em grandes áreas. O pacote SIMS totalmente integrado fornece a precisão necessária para localizar pequenos defeitos para análise posterior. Utilizando tecnologias de gravura múltipla, as taxas de gravura de diferentes componentes de uma única camada podem ser combinadas, permitindo a remoção uniforme de toda a camada, independentemente da composição química.
Apoiada pelo compromisso de parceria da Denton, a ferramenta Infinity FA proporciona um desempenho de qualidade e um elevado tempo de funcionamento do sistema. A nossa equipa de assistência global irá fornecer-lhe um calendário de manutenção preventiva de confiança e um apoio reactivo para assegurar a melhor produtividade e resultados de produção.
Análise de falhas de semicondutores
Atraso
Melhoria do rendimento
Engenharia inversa
Análise de falhas de microdisplay
O sistema Infinity FA System é uma ferramenta de gravação de alto desempenho concebida para a preparação de amostras de análise de falhas, perfil de película fina crítica e retardamento no fabrico de semicondutores. A gravura por feixe de iões (IBE), a gravura por feixe de iões reactiva (RIBE), e a gravura por feixe de iões quimicamente assistida (CAIBE) são utilizadas para fornecer taxas uniformes de gravura por camadas de vários materiais.
O sistema inclui um pacote SIMS robusto para analisar a remoção de película fina. É compatível com ESD e é totalmente controlado por computador para alta automatização e repetibilidade. Um espectrómetro de massa iónica secundária (SIMS) permite um controlo preciso do ponto final para atrasar as pastilhas semicondutoras e identificar defeitos, a fim de melhorar o rendimento do processo.
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