Máquina de deposição por CVD Voyager PIB-CVD

por pulverização catódicade camadas finasóptica

O Voyager PIB-CVD é um sistema de Deposição de Vapor Químico (PIB-CVD) assistido por feixe de iões de plasma, construído em torno da Fonte de Iões RF Endeavor sem filamentos. Esta fonte de iões patenteada, por concepção, tem controlo independente tanto da densidade de corrente iónica como da energia iónica numa vasta gama, capaz de produzir revestimentos multicamadas de alta taxa de deposição. É capaz de depositar revestimentos de alta taxa e alta qualidade a baixa temperatura (abaixo de 100°C), tornando-a compatível com substratos plásticos típicos, tais como policarbonato (PC) e polimetilmetacrilato (PMMA). O sistema Voyager PIB-CVD foi concebido com foco no nanocomposto diamantado (DLN) para proporcionar a melhor flexibilidade da classe para revestir planar (ex. bolachas de silício), e peças tridimensionais (ex. lentes ópticas). O sistema é configurado com o sistema de controlo Process Pro da Denton, permitindo o controlo automático e manual do processo. Além disso, existe uma configuração opcional de câmara proprietária para permitir a co-promoção durante o depósito DLN para filmes DLN (Me-DLN). Esta configuração é única na indústria e abre o potencial para desenvolver novas películas DLN com propriedades mecânicas, eléctricas, e tribológicas à medida. A plataforma Voyager PIB-CVD fornece filmes de nanocomposto diamantado (DLN): Visores flexíveis e resistentes a riscos Revestimentos de desgaste para produtos médicos e comerciais Películas protectoras transparentes IV Revestimentos hidrofóbicos