Fonte de íons Endeavor RF

A Fonte de Iões RF Endeavor da Denton foi concebida para funcionar sem filamento e utiliza uma única grelha de extracção. Como o fluxo de electrões extraídos da fonte é suficiente para neutralizar a carga espacial do feixe de iões e eliminar o arco de carga espacial na câmara, esta fonte de iões RF não requer um neutralizador auxiliar de electrões, tal como um filamento quente ou um cátodo oco. Investigação e fabrico de: Dispositivos ópticos Fotónica Dispositivos magnéticos e microelectrónicos A capacidade de produzir e controlar espécies de iões com energia específica, reactividade química, densidade de corrente e trajectória tornam as fontes de iões ferramentas eficazes para criar filmes e superfícies de precisão. Densificação, transmissão óptica, uniformidade de espessura crítica, interfaces suaves, melhor aderência e paredes laterais verticais são algumas das propriedades materiais procuradas pelas fontes de iões durante a deposição de película fina. A Denton oferece a nossa fonte de iões CC-106 desenvolvidos internamente. O CC-106 é uma fonte CC de catodo frio de feixe largo concebida para deposição assistida por iões e processos de pré-limpeza, utilizando oxigénio ou árgon. Oferecemos agora o nosso novo Endeavor RF Ion Source sem filamentos, actualmente disponível em novos sistemas.