Forno de câmara +60 °C ... +300 °C | PVC, PVHC seriespara tratamento térmicoelétrico
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Características
- Configuração
- de câmara
- Função
- para tratamento térmico
- Fonte de calor
- elétrico
Descrição
Usado extensivamente no cozimento, o tratamento térmico/a secagem de bolachas do semicondutor, cristais líquidos, discos e outros componentes e dispositivos exigindo condições do ar puro.
Além do que a instrumentação padrão que oferece a programação two-step, a M-instrumentação permite a operação programada em até 18 etapas.
A limpeza da classe 100 é conseguida empregando um filtro de HEPA e um sistema laminar back-to-front da circulação.
O modelo de capacidade elevada (modelo de PVHC) fornece o desempenho estável mesmo durante o aquecimento ou refrigerar em altas temperaturas de 150°C (+302°F) ou mais.
Compatível com a rede da câmara, sistema de E-BUS.
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