Apresentamos a METIS, uma plataforma híbrida planar de rolamentos mecânicos/ar de última geração, concebida para aplicações de passo e varrimento, que assegura uma precisão, tempos de deslocação e assentamento e estabilidade de velocidade sem paralelo em 4 graus de liberdade.
A plataforma METIS é uma plataforma híbrida planar de rolamentos mecânicos/ar de ponta, dedicada a aplicações de passo e varrimento com movimento de quatro eixos nas direcções X, Y, Z e Theta. A sua planicidade dinâmica ao longo de toda a gama de deslocações e a repetibilidade bidirecional tornam-na ideal para tarefas de alta precisão. O METIS é amplamente utilizado em aplicações de Controlo de Processos de Wafer, tais como Dimensão Crítica e Metrologia de Película Fina, Scribing de Wafer e Recozimento Térmico a Laser de Wafer. Também é adequado para máquinas de Litografia Back End Of Line (alinhadores de máscaras) e algumas aplicações de corte de bolachas.
O METIS oferece um desempenho fiável, tornando-o uma ferramenta essencial para aplicações avançadas de semicondutores e fotónica.
Caraterísticas
A METIS combina tecnologias de rolamentos mecânicos e de ar para uma precisão e flexibilidade máximas.
METIS permite movimentos nos eixos X, Y, Z e Theta, ideal para aplicações de passo e varrimento.
A plataforma oferece uma elevada planicidade dinâmica e uma elevada repetibilidade bidirecional em toda a gama de deslocações.
A METIS é utilizada no controlo do processo de bolachas, no traçado de bolachas e no recozimento térmico a laser.
A plataforma oferece um desempenho fiável para aplicações avançadas de semicondutores e fotónica.
A METIS também é adequada para máquinas de litografia de back-end e aplicações de corte de bolachas.
Eis as principais caraterísticas dos nossos modelos:
Nivelamento do movimento
Mantida pela tecnologia de rolamentos de ar em toda a gama de deslocações.
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