Sistema de posicionamento módulos combinados ZT
de 3 eixosXYvertical

Sistema de posicionamento módulos combinados - ZT - ETEL S.A. - de 3 eixos / XY / vertical
Sistema de posicionamento módulos combinados - ZT - ETEL S.A. - de 3 eixos / XY / vertical
Sistema de posicionamento módulos combinados - ZT - ETEL S.A. - de 3 eixos / XY / vertical - imagem - 2
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Características

Número de eixos
de 3 eixos, XY
Construção
vertical
Aplicações
para inspeção de wafers e metrologia, para sala limpa
Outras características
compacto, módulos combinados
Repetibilidade

0,25 µm, 0,3 µm, 1 µm, 2 µm

Carga

1 kg
(2,2 lb)

Curso

4 mm, 12 mm
(0,16 in, 0,47 in)

Velocidade

0,02 m/s, 0,1 m/s
(0,07 ft/s, 0,33 ft/s)

Descrição

O módulo ZT box oferece dois graus de liberdade - Z e Theta - numa única unidade, com ajustes grosseiros e finos do eixo Z disponíveis. Concebido para aplicações de controlo de processos de bolachas, pode funcionar independentemente ou ser montado sobre uma plataforma XY. Este módulo oferece capacidades versáteis de controlo de movimento, com rotação infinita e fornecimento de vácuo incorporado ao nível do mandril de bolacha. Incorpora um compensador de gravidade e é compatível com salas limpas ISO 1, o que o torna ideal para metrologia de película fina e dimensões críticas no fabrico de semicondutores. Com um eixo Z grosso que oferece um curso de 12 mm para carregamento/descarregamento de bolacha e um eixo Z fino com um curso de 4 mm para ajuste de foco, este módulo garante um posicionamento preciso e estável. Para além disso, oferece um excelente desempenho em termos de instabilidade Z e de movimento e assentamento. Caraterísticas Aceleração: Z: 2m/s², CZ: 1m/s² e Theta 104,7 rad/s² Eis as principais caraterísticas: Rotação infinita Proporciona uma rotação contínua para um posicionamento versátil. Fornecimento de vácuo integrado Canal de vácuo integrado na interface do mandril de wafer. Compensador de gravidade minimiza a dissipação de energia, aumenta a precisão. Compatibilidade com salas limpas Compatibilidade com salas limpas ISO 1 obtida através de aspiração por vácuo. Eixos Z grosso e fino Os eixos Z grosso e Z fino integrados permitem um design compacto. Opções de personalização Versão sem um eixo Z grosso disponível para atender a requisitos específicos. Excelente desempenho Oferece um jitter Z muito bom e um tempo de deslocação e de estabilização muito curto.

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* Os preços não incluem impostos, transporte, taxas alfandegárias, nem custos adicionais associados às opções de instalação e de ativação do serviço. Os preços são meramente indicativos e podem variar em função dos países, do custo das matérias-primas e das taxas de câmbio.