Sistema de medição de espessura
ópticopara waferspara aplicações industriais

sistema de medição de espessura
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Características

Grandeza física
de espessura
Tecnologia
óptico
Produto medido
para wafers
Aplicações
para aplicações industriais, para eletrônica
Outras características
de alta precisão, de alta velocidade, de 2 eixos

Descrição

Face às empresas de produção de matérias-primas a montante da cadeia da indústria de semicondutores, o sistema de medição confocal desenvolvido independentemente é utilizado para detectar o tamanho e a planicidade das pastilhas semicondutoras brutas e epitaxiais. Vantagens do produto: Vasta gama de aplicações Utilizada para bolacha original de 4-8 polegadas, substrato e bolacha epitaxial de vários materiais e condições de polimento Elevada precisão de medição Gama de espessuras: precisão de medição de 0-1mm: ± 1 μ M precisão de repetição: 0,2 μ m Curto tempo de medição Tempo de medição: 30s / PCS (de acordo com a trajectória de detecção do cliente)

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