Espectrômetro ICP-OES EXPEC-6500
OESICPde laboratório

Espectrômetro ICP-OES - EXPEC-6500 - Focused Photonics Inc. - OES / ICP / de laboratório
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Características

Tipo
OES, ICP-OES
Âmbito de utilização
de laboratório, para alimentos, para água
Configuração
de bancada
Detector
CCD
Outras características
de alta sensibilidade, multicanais
Comprimento de onda

MÍN: 160 nm

MÁX: 900 nm

Comprimento

930 mm
(36,61 in)

Largura

700 nm

Altura

560 mm
(22,05 in)

Descrição

O espetrómetro de emissão ótica com plasma de acoplamento indutivo EXPEC-6500 adopta uma tecnologia de observação dupla com tocha vertical recentemente desenvolvida, que pode medir elementos com diferenças de conteúdo relativamente grandes numa numa matriz complexa. O espetrómetro de emissão ótica com plasma de acoplamento indutivo EXPEC-6500 adopta uma tecnologia de observação dupla com tocha vertical recentemente desenvolvida, que pode medir elementos com diferenças de conteúdo relativamente grandes numa matriz complexa. A fonte de alimentação RF patenteada, auto-excitada e de estado sólido, garante uma excelente adaptabilidade do sistema às amostras e oferece um modo de espera de baixo consumo, o que reduz consideravelmente o consumo de árgon. O exclusivo sensor ECCD de alta sensibilidade com matriz de grande área ECCD de grande área e alta sensibilidade proporciona um melhor desempenho ao produto. Combinado com muitos anos de experiência da EXPEC sériés no desenvolvimento de instrumentos de espetroscopia, o produto EXPEC-6500 ICP-OES oferece o índice de estabilidade de 8 horas RSD de < 1%, e a precisão RSD do método padrão internacional duplo de < 0,1%, e assim traz resultados de análise estáveis e confiáveis. Uma nova geração de tecnologia de observação dupla de tocha vertical. O produto EXPEC-6500 adopta uma tecnologia de observação dupla de tocha vertical recentemente desenvolvida, que reduz grandemente o consumo de árgon e o consumo da tocha, e pode ser utilizada para medir elementos com diferenças relativamente grandes de conteúdo numa matriz complexa. A tocha vertical evita a alta deposição de sait, e a observação radial evita a interferência da matriz, o que permite obter uma melhor sensibilidade e repetibilidade. A inovadora tecnologia de observação vertical com altura ajustável pode otimizar a posição de observação para diferentes elementos.

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