Dispositivo de monitoramento de medição C10346-01

de processode emissõesde plasma

O monitor de processo de plasma Multiband C10346-01 é um sistema projetado especificamente para monitorar as emissões de plasma óptico que são criadas durante os vários processos de fabricação de semicondutores, incluindo gravura, pulverização, limpeza e CVD. O MPM pode lidar com gravação multi-canal em tempo real. Especificações Tipo número : C10346-01 Faixa de comprimento de onda: 200 nm a 950 nm Precisão do comprimento de onda : ±0,75 nm Resolução do comprimento de onda (FWHM) : <2 nm Fonte de alimentação : AC100 V a AC240 V (50 Hz/60 Hz) Consumo de energia : Aprox. 70 VA Terminal de saída digital (Determinar a saída do sinal) : TTL máximo 5 canais (3 canais no máximo quando o sinal de disparo da medição é utilizado) Terminal de entrada digital (início do sinal de disparo da medição) : TTL 1 canal Usando TTL 5 canais Terminal de saída digital (Busy signal) : TTL 1 canal Usando TTL 4 canais Terminal de saída analógica : 2 canais de 0 V a 10 V Conector de sonda de fibra : SMA Interface de comunicação : USB 2.0 Tipo B Temperatura ambiente de funcionamento : +10 ˚C a +30 ˚C