Máquina de revestimento multicamadas

automáticapara aplicações fotovoltaicas

É adequado para os sectores dos semicondutores e fotovoltaico. Para as células do processo TOPCon no domínio fotovoltaico, o equipamento LPCVD pode completar a preparação da camada de óxido de túnel/camada de poli numa só paragem. A combinação de oxigénio térmico e deposição de camadas de poli pode aumentar consideravelmente a capacidade de produção, sendo compatível com o processo de crescimento i/d-Poly. Caraterísticas principais Processo maduro de alta capacidade, tecnologia de controlo de temperatura de modo duplo, tecnologia de proteção do calibre da película; Com uma variedade de tecnologias de revestimento: película composta de várias camadas, tecnologia de polissilício dopado; Corpo do forno de arrefecimento rápido patenteado: A mais recente tecnologia patenteada faz com que a temperatura do corpo do forno desça rapidamente para a temperatura necessária, e a taxa de arrefecimento pode ser aumentada em mais de 25%, o que pode melhorar a uniformidade da temperatura no tubo do forno, obviamente; Tecnologia de controlo de pressão rápida e adaptável em circuito fechado; Sistema MES/CCRM com arquitetura completa e desempenho excecional; Computador industrial integrado + software de controlo de processos modular; Tratamento abrangente de segurança contra falhas de energia e proteção anormal da água da flange.