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Máquina de deposição T-aSi (Oxidation + a-Si)
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Descrição
Este sistema é utilizado para a deposição in-situ de óxido e poli para a célula TOPCon, o que permite a captura selectiva de electrões, melhorando a sua taxa de recombinação.
Especificação
Alto rendimento: 4.702 wafers/h (640 wafers/barco)
Tempo de ciclo: 49 min
Tempo de actividade: 97%
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