• Modelo premium potente para medição precisa da espessura do revestimento e análise de materiais em estruturas mais pequenas e revestimentos mais finos < 0,1 µm
• Tubo microfocus Ultra com ânodo de tungstênio para um melhor desempenho nos menores pontos com a µ-XRF; ânodo de molibdênio opcional
• Filtro 4 vezes substituível
• Detector de desvio de silício extremamente potente com área de 20 mm² ou 50 mm² para maior precisão em películas finas
• Óptica policapilar de fabrico próprio para pontos de medição mais pequenos até 10 μm FWHM, em tempos de medição curtos com alta intensidade
• Processador de pulso digital DPP+ para maiores taxas de contagem, tempos de medição reduzidos ou melhor repetibilidade dos seus resultados de medição
• Análise de elementos de Al(13) a U(92), purga de hélio disponível, medição simultânea de até 24 elementos
• Fase XY de alta precisão, programável com precisão de posicionamento de < 5 µm para o posicionamento mais preciso das amostras e reconhecimento automático de padrões, para a melhor precisão de repetibilidade
Campos típicos de aplicações
• Medidas em componentes e estruturas planas muito pequenas, tais como placas de circuitos impressos, contactos ou armações de chumbo
• Medição de revestimentos funcionais na indústria eletrônica e de semicondutores
• Análise de revestimentos muito finos, por exemplo, revestimentos de ouro/paládio de ≤ 0.1 µm
• Determinação de sistemas complexos de multicamadas
• Medidas automatizadas, por exemplo, no controle de qualidade
• Medição de elementos leves, por exemplo, determinação do teor de fósforo (em ENIG/ENEPIG) sob ouro e paládio