Sistema de medição de birrefringência Exicor® DUV series

O Exicor® DUV e 193 sistemas de DUV mede o birefringence em comprimentos de onda ultravioletas profundos. As 2003 do “concessões R&D 100” que ganham o sistema de Exicor DUV foram desenvolvidas para avaliar o birefringence intrínseco em materiais da lente do fluoreto do cálcio (CaF2) no comprimento de onda da aplicação de 157 nanômetro. O Exicor subseqüente 193 focos de DUV em uma variedade de materiais usados em 193 sistemas litográficos do nanômetro, especial imersão 193 sistemas da litografia do nanômetro que exijem o sistema ótico o mais de alta qualidade. Ambos sistemas satisfazem a medida no comprimento de onda do princípio do uso exijido pelos fabricantes óticos dos materiais da precisão que estão empurrando o envelope da tecnologia. Os sistemas DUV e 193DUV de Exicor são os sistemas preliminares usados pelo industryoptics principal da litografia manufaturam para medir o birefringence em materiais do espaço em branco da lente e em espaços em branco do photo-mask nos comprimentos de onda litográficos de DUV (157 nanômetro, 193 nanômetro, 248 nanômetro). Estes sistemas são construídos com um frame robusto e uns componentes resistentes do controle de movimento para sistemas óticos de medição X.400 milímetro de até 400 milímetros e 200+ milímetro densamente. O sistema de Exicor DUV igualmente utiliza um sistema localizado original do deslocamento do oxigênio na câmara da amostra porque a luz UV de 157 nanômetro é absorvida por moléculas do oxigênio. Este nitrogênio seco limpo ambiente removido igualmente impede a geração de ozônio na câmara da amostra de DUV. Remover não é exigida para 193 248 do nanômetro medidas do nanômetro e. Estágio da exploração destes sistemas o grande igualmente permite as peças menores múltiplas do carregamento no estágio, com o software opcional de Exicor Macro+ que executa rotinas automatizadas para fazer a varredura individualmente de cada parte.