Sistema de feixe de íons focalizado NX5000

Desempenho inigualável com a máxima flexibilidade O FIB-SEM Ethos da Hitachi incorpora a última geração de FE-SEM com uma excelente estabilidade e brilho do feixe. O Ethos proporciona imagens de alta resolução a baixas tensões combinadas com ótica de iões para processamento de precisão à nanoescala. Coluna FE-SEM de elevado desempenho com modo de lente dupla - Observação de resolução ultra-alta (modo HR: semi-in-lens) - Deteção de pontos finais de elevada precisão em tempo real (modo FF: Field Free (modo de partilha de tempo)) Processamento de materiais de elevado rendimento - Processamento ultrarrápido com elevada densidade de corrente de iões (corrente máxima do feixe: 100 nA) - Script programável pelo utilizador para processamento automático e observação Sistema de microamostragem - Controlo de orientação da amostra totalmente integrado para Efeito Anti-Curtaining (tecnologia ACE) - Preparação de amostras TEM para lamelas uniformes em qualquer orientação Capacidade de feixe triplo, fornecendo resultados de qualidade avançada - Processamento de materiais por feixe de iões de gás nobre de baixa aceleração - Funções inovadoras reduzem os artefactos relacionados com iões Ga e outros artefactos de fresagem Câmara e palco multiportas de grandes dimensões para várias aplicações - Sistema capaz de processar amostras de grandes dimensões com uma estabilidade de palco excecional - Rastreio de longa distância melhorado de gama completa (155 x 155 mm) Ótica de electrões refinada e deteção de múltiplos sinais A coluna SEM Ethos é composta por um sistema de lentes objectivas compostas de campo magnético e eletrostático configurado em dois modos de lentes. O modo de Alta Resolução (HR) permite a observação de amostras com a máxima resolução através da imersão da amostra no campo magnético do sistema de lentes. O modo Field Free (FF) oferece processamento FIB em tempo real para fresagem de pontos finais de elevada precisão.