Espectroscópio EV-140C

Este monitor de ponto final do tipo análise de emissões destina-se à deteção do ponto final ou ao controlo do estado do plasma no processo de película fina de semicondutores à base de plasma. O algoritmo de Intensidade de Captura recentemente desenvolvido permite uma deteção precisa do ponto final através da captação de alterações ténues do sinal. A capacidade de captar alterações subtis na emissão melhorou significativamente a sensibilidade. A imunidade ao ruído melhorada assegura um funcionamento altamente estável em ambientes hostis de linhas de fabrico contínuas. Características Grelha brilhante com rácio de abertura de F/2 Um sistema ótico brilhante é obtido através da utilização de uma grande grelha côncava com correção de aberrações, com 70 mm de diâmetro, fabricada pela HORIBA Jobin Yvon. A capacidade de recolha de luz da própria grelha côncava permite a construção de um sistema ótico simples que é mais brilhante do que os espectroscópios Czerny-Turner e que pode minimizar a perda de reflexão causada por espelhos e outras superfícies reflectoras. Sensor de linha CCD retroiluminado que oferece alta sensibilidade e alta resolução de 2.048 canais O CCD retroiluminado atinge uma elevada eficiência quântica, assegurando uma espetroscopia estável no amplo espetro, desde as regiões UV até às regiões visíveis. A medição altamente sensível possível na região UV, em particular, permite a deteção do ponto final na gama de comprimentos de onda que é menos afetada por interferências. Software Sigma-P para controlo avançado do processo Este software executa uma variedade de passos necessários para o controlo de processos, desde a análise do comportamento do plasma até à criação de bases de dados de dados medidos e ao controlo remoto do equipamento de fabrico.