O processo de Deposição Química de Vapor Metal-Orgânico (MOCVD) é amplamente utilizado no fabrico de LEDs, dispositivos ópticos e outros componentes. Os precursores líquidos e sólidos são fornecidos à câmara de reação através do controlo da temperatura, da pressão e do caudal de gás de transporte (método de borbulhamento). A série IR-300 em linha mede e comunica a concentração de precursores em tempo real, proporcionando ao utilizador as seguintes vantagens
Otimizar o controlo do processo para produzir mais dispositivos de alta qualidade
Melhorar o rendimento do dispositivo e reduzir os resíduos
Melhorar a reprodutibilidade
Saber quando é necessário substituir um borbulhador
Prolongar o MTTA
Reduzir as intervenções não planeadas
Reduzir o desperdício de precursores valiosos
Monitorização em tempo real
A resposta rápida e a excelente repetibilidade permitem o acompanhamento em tempo real das alterações na concentração de vapor
Função de curva de multi-calibração (opcional)
Permite a medição da concentração de até 3 químicos ou gamas
Função de ecrã múltiplo
A função de visualização múltipla na parte superior da unidade IR-300 oferece ao utilizador a capacidade de verificação no local da monitorização da concentração e do estado da linha de fornecimento de precursores
Função de comunicações
Conectividade através de DeviceNet™, RS485 e comunicações analógicas
Design simples e compacto
Com um tamanho facial de 124 mm, o design compacto e sem orientação de montagem da unidade permite uma fácil integração
Uma intensidade ótica elevada e uma fonte de luz de longa duração, combinadas com um processamento de sinal de alta velocidade, permitem que a série IR-300 obtenha respostas mais rápidas e mais repetíveis às alterações na concentração de precursores. Estas características dão ao utilizador uma verdadeira compreensão do processo real através da medição da concentração em linha em tempo real.
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