Sistema de posicionamento com grande abertura XY-OF-S300x300-A300x300JXYlinearpara inspeção de wafers e metrologia
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Características
- Número de eixos
- XY
- Construção
- linear
- Aplicações
- industrial, para inspeção de wafers e metrologia, para laboratório, para sala limpa, para aplicações ópticas, para manipulação de wafers, de circuitos impressos, scanner, para teste
- Outras características
- compacto, alta precisão, com motor linear, de alta resolução, servo-controlado, com motor de passo, com servoacionamento, rápido, com grande abertura, de fuso
- Repetibilidade
5 µm
- Carga
30 kg
(66,14 lb)- Curso
300 mm
(11,81 in)- Velocidade
40 mm/s, 80 mm/s
Descrição
Plataformas XY de estrutura aberta concebidas com um perfil baixo para uma vasta gama de posicionamento preciso automatizado em aplicações baseadas em microscópios. O mecanismo de acionamento está localizado na parte lateral da unidade e oferece uma abertura clara e não obstruída de dois eixos para permitir a passagem de luz ou objectos através do centro de deslocação.
QUADRO ABERTO 300x300 mm A APERTURA MANTEVE-SE INOBSTRUÍDA DURANTE TODO O CURSO DA ETAPA XY
Modelo - Unidade -
XY-OF-S300x300-A300x300J
Curso XY - mm - 300x300
Avanço do parafuso - 4 mm -
Abertura - mm - 300x300 desobstruída em todo o curso
Tampo da mesa - mm - 400x400
Altura - mm 140
Folga - mícron - 5
Resolução (traduzida) - mícron - 1
Motor NEMA17 - -
de passo, de passo/codificador, servo/codificador
Repetibilidade - mícron - 5
Capacidade de carga - kg - 30
Peso da mesa - kg - 45
Velocidade máxima - mm/seg 80 com servo motor 40 com motor de passo
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