Sistema de litografia a laser JBX-9500FS

O JBX-9500FS é um sistema EB de 100kV que proporciona um rendimento e uma precisão posicional de nível mundial entre os sistemas de litografia de feixe pontual. Este sistema EB pode acomodar wafer de até 300mmΦ e máscara de até 6 polegadas, respondendo assim à I&D e produção em vários campos, tais como nanoimpressão, dispositivo fotónico e dispositivo de comunicação. Características Para além da velocidade máxima de varrimento de 100MHz, a JBX-9500FS atinge uma precisão de sobreposição de ±11nm, precisão de costura de campo de ±10nm e precisão posicional dentro do campo de ±9nm quando o tamanho do campo é de 1000µm×1000µm. Assim, o JBX-9500FS é um sistema EB de 100kV que proporciona um rendimento e uma precisão posicional de nível mundial entre os sistemas de litografia de feixe pontual. Uma vez que a JBX-9500FS utiliza um DAC de posicionamento de feixe de 20 bits e um DAC de varrimento de 14 bits, obtém-se um passo de varrimento de maior resolução de 0,25 nm para um incremento de dados de escrita de 1 nm, reproduzindo assim dados de escrita mais precisos. A sua elevada velocidade de varrimento até 100MHz permite à JBX-9500FS manter passos de varrimento curtos em escrita de grande corrente, melhorando assim o rendimento mesmo quando é necessária uma escrita de padrões de alta precisão. A precisão posicional de classe mundial é alcançada pelo LBC (controlo do feixe laser) que fornece o passo mínimo de posicionamento do feixe de alta resolução de 0,15nm (λ/4096). Além disso, uma função única de auto-calibração (função de correção automática) desenvolvida pela JEOL permite uma escrita de padrões altamente fiável e estável durante um longo período de tempo. A temporização da correção automática pode ser definida para cada campo ou cada padrão. Esta função é muito eficaz para um longo período de escrita sem um operador, por exemplo, aos fins-de-semana ou feriados consecutivos.