Estufa vertical VF-5300

para tratamento térmicode recozimentode oxidação

Este forno vertical com um armazenador incorporado processa bolachas de 8 polegadas a temperaturas ultra-altas em grandes lotes. Este forno é um sistema de tratamento térmico de semicondutores que pode realizar oxidação, difusão, LPCVD, recozimento por activação e vários outros tratamentos térmicos. Características Grande lote, máx. 150 wafers processamento por lote Máximo 20 stocks de cassetes Excelente controlo de temperatura desde a gama de temperaturas baixas a médias altas utilizando um aquecedor LGO Transferência de wafers de alta velocidade através da utilização de um/quinto robot de manipulação de wafers Equipado com um sistema de controlo de alto desempenho de fácil utilização pelo operador Este modelo é um forno de difusão vertical contínuo de grande capacidade, do tipo produção em massa, equipado com um estocador para um máximo de 150 wafers (8 polegadas) ou 20 cassetes. Graças ao aquecedor LGO, este forno apresenta características de temperatura superiores numa gama que vai desde baixas temperaturas até temperaturas ultra-altas. Este forno pode ser utilizado para uma vasta gama de processamento desde o recozimento a baixa temperatura, nitreto (Si3N4), polissilício (poli Si) e outro material LPCVD até à oxidação e difusão. Um aquecedor de disilicida de molibdénio (MoSi2) também pode ser utilizado para apoiar a oxinitretação de portas de dispositivos de energia SiC e outro processamento a temperaturas ultra-elevadas.