Estufa vertical VF-1000

de oxidaçãoelétricade laboratório

Este pequeno forno vertical do tipo de produção para experiências e investigação (I&D) consegue um processamento de alta qualidade. Este forno é compacto e requer apenas uma pequena área de instalação, mas é utilizável para uma vasta gama de diâmetros de bolachas e apresenta as mesmas características de temperatura que os fornos de produção em massa. Características Processamento de alto desempenho para I&D Mini lote, máx. 25 wafers processamento por lote estão disponíveis bolachas de 2 a 8 polegadas e 300 mm de tamanho Equipado com um aquecedor LGO para realizar o mesmo desempenho a altas temperaturas que o equipamento de produção em massa Equipado com sistema de controlo simples de função limitada Este forno vertical para experiências, investigação (I&D) e pequena produção pode ser utilizado para uma vasta gama de tamanhos de bolachas de 2 a 8 polegadas e até 300 mm, e o tamanho do mini lote pode também ser escolhido entre até 25 bolachas. Uma vez que o aquecedor pode ser escolhido de um aquecedor LGO e vários outros aquecedores, o desenvolvimento do processo está disponível com a mesma estrutura de abertura de fornos e desempenho do aquecedor que os fornos de produção em massa. Este forno pode ser utilizado para vários tratamentos de bolachas de silício (LPCVD, oxidação e difusão), oxinitretação da porta de silício e recozimento de activação para desenvolvimento de dispositivos de potência (Si e SiC), e uma vasta gama de outros processos.